Ugrás a tartalomra
Merck

648663

Sigma-Aldrich

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II)

Szinonimák:

Diethylruthenocene

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez


About This Item

Lineáris képlet:
C7H9RuC7H9
CAS-szám:
Molekulatömeg:
287.36
MDL-szám:
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

form

liquid

Minőségi szint

összetétel

Ru, 33.9-36.4% gravimetric

reakcióalkalmasság

core: ruthenium
reagent type: catalyst

törésmutató

n20/D 1.5870 (lit.)

bp

100 °C/0.01 mmHg (lit.)

mp

6 °C (lit.)

sűrűség

1.3412 g/mL at 25 °C (lit.)

tárolási hőmérséklet

−20°C

SMILES string

[Ru].CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1.CC[C]2[CH][CH][CH][CH]2

InChI

1S/2C7H9.Ru/c2*1-2-7-5-3-4-6-7;/h2*3-6H,2H2,1H3;

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

VLTZUJBHIUUHIK-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Alkalmazás

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) (Ru(EtCp)2), a metal organic is used as an atomic layer deposition precursor for Ru thin filmsand well-aligned RuO2 nanorods.

Piktogramok

Exclamation mark

Figyelmeztetés

Warning

Figyelmeztető mondatok

Veszélyességi osztályok

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

Célzott szervek

Respiratory system

Tárolási osztály kódja

10 - Combustible liquids

WGK

WGK 3

Lobbanási pont (F)

>199.9 °F - closed cup

Lobbanási pont (C)

> 93.3 °C - closed cup

Egyéni védőeszköz

Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter


Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Thermal atomic layer deposition (ALD) of Ru films for Cu direct plating.
Choi SH, et al.
Journal of the Electrochemical Society, 158(6), D351-D356 (2011)
In-situ real-time ellipsometric investigations during the atomic layer deposition of ruthenium: A process development from [(ethylcyclopentadienyl)(pyrrolyl) ruthenium] and molecular oxygen.
Knaut M, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films, 30(1), 01A151-01A151 (2012)
Growth and characterization of the coexistence of vertically aligned and twinned V-shaped RuO2 nanorods on nanostructural TiO2 template
Chen CA, et al.
J. Alloy Compounds, 485(1-2), 524-528 (2009)
ALD-grown seed layers for electrochemical copper deposition integrated with different diffusion barrier systems.
Waechtler T, et al.
Microelectronic Engineering, 88(5), 684-689 (2011)

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással