Ugrás a tartalomra
Merck

496863

Sigma-Aldrich

Pentakis(dimethylamino)tantalum(V)

99.99%

Szinonimák:

PDMAT, TADMA, Ta(NMe2)5, Tantalum dimethylamide

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez


About This Item

Lineáris képlet:
Ta(N(CH3)2)5
CAS-szám:
Molekulatömeg:
401.33
MDL-szám:
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

Minőségi szint

Teszt

99.99%

form

solid

reakcióalkalmasság

core: tantalum
reagent type: catalyst

mp

100 °C (dec.) (lit.)

SMILES string

CN(C)[Ta](N(C)C)(N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/5C2H6N.Ta/c5*1-3-2;/h5*1-2H3;/q5*-1;+5

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

VSLPMIMVDUOYFW-UHFFFAOYSA-N

Általános leírás

Atomic number of base material: 73 Tantalum

Tulajdonságok és előnyök

Volatile solid CVD precursor to tantalum nitride (TaN) thin films. Also yields tantalum oxide (Ta2O5) thin films when O2, H2O, NO or H2O2 is present during the deposition process. Ta2O5 thins films show promise as gate dielectric materials in the manufacture of integrated circuits.

Piktogramok

FlameCorrosion

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

Veszélyességi osztályok

Eye Dam. 1 - Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Tárolási osztály kódja

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

WGK

WGK 3

Lobbanási pont (F)

Not applicable

Lobbanási pont (C)

Not applicable

Egyéni védőeszköz

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

James E Maslar et al.
Applied spectroscopy, 74(10), 1219-1229 (2019-10-17)
A nondispersive infrared gas analyzer was demonstrated for investigating metal alkylamide precursor delivery for microelectronics vapor deposition processes. The nondispersive infrared analyzer was designed to simultaneously measure the partial pressure of pentakis(dimethylamido) tantalum, a metal precursor employed in high volume

Cikkek

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással