Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(1)

Fontos dokumentumok

View All Documentation

759562

Sigma-Aldrich

Tris(dimethylamino)silane

packaged for use in deposition systems

Szinonimák:

Tris(dimethylamino)silane, (Me2N)3SiH, N,N,N′,N′,N′′, N′′-Hexamethylsilanetriamine, Tris(dimethylamido)silane, N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexamethylsilanetriamine, TDMAS

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(1)

About This Item

Lineáris képlet:
((CH3)2N)3SiH
CAS-szám:
15112-89-7
Molekulatömeg:
161.32
EC-szám:
239-165-0
MDL-szám:
MFCD00048006
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
329766793
NACRES:
NA.23

Minőségi szint

100

Teszt

≥99.9% (GC)

Forma

liquid

bp

142 °C (lit.)

mp

−90 °C (lit.)

sűrűség

0.838 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Általános leírás

Tris(dimethylamino)silane is an organosilicon compound with high volatility and thermal stability, widely used as a vapor deposition precursor to fabricate silicon-containing thin films for various applications, including solar cells, fuel cell catalysts, and semiconductors. The depositions can be carried out at low substrate temperatures (<150). The melting point and vapor pressure of TDMAS is in a suitable working range, thus making it a very good vapor deposition precursor.

Alkalmazás

Tris(dimethylamino)silane can be used:
  • As a silicon source for deposition of aluminum silicate on TiO2 anodes for dye-sensitized solar cells vis atomic layer deposition method.
  • As a precursor to fabricate functionalized Si reinforced separators for Li-ion batteries.

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

H225,H261,H302,H311 + H331,H314

Veszélyességi osztályok

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2

Egyéb veszélyek

EUH029

Tárolási osztály kódja

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

WGK

WGK 3

Lobbanási pont (F)

16.0 - 32.0 °F - closed cup

Lobbanási pont (C)

-8.89 - 0.00 °C - closed cup

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
SHBR0510
SHBJ8726
SHBG7213V
SHBG2008V
SHBC4237V

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Hirose; F.; Kinoshita; Y.; Shibuya; S.; et al
Thin Solid Films, 519, 270-270 (2011)
Boudreau; M.; Boumerzoug; M.; Mascher; P.; Jessop; P. E.
Applied Physics Letters, 63, 3014-3014 (1993)
B Ballantyne et al.
Toxicology and industrial health, 5(1), 45-54 (1989-01-01)
The acute handling hazards of tris(dimethylamino)silane [TDMAS] were investigated. The acute male rat peroral LD50 (with 95% confidence limits) was 0.71 (0.51-0.97) ml/kg, and the acute male rabbit percutaneous LD50 was 0.57 (0.35-0.92) ml/kg. The liquid was severely irritating to

Cikkek

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Progress in Spintronic Materials

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Nanowire Synthesis: From Top-Down to Bottom-Up

The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással