Ugrás a tartalomra
Merck

579211

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV)

electronic grade, ≥99.99% trace metals basis

Szinonimák:

TDMAZ, Tetrakis(dimethylamino)zirconium(IV)

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez


About This Item

Lineáris képlet:
[(CH3)2N]4Zr
CAS-szám:
Molekulatömeg:
267.53
MDL-szám:
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

grade

electronic grade

Minőségi szint

Teszt

≥99.99% trace metals basis

Forma

solid

reakcióalkalmasság

core: zirconium

mp

57-60 °C (lit.)

tárolási hőmérséklet

2-8°C

SMILES string

CN(C)[Zr](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Zr/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

DWCMDRNGBIZOQL-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Alkalmazás

Tetrakis(dimethylamido) zirconium (IV) may be used as a precursor for atomic layer deposition of zirconium which find applications ranging from gas sensors to high-k dielectrics in microelectronics.

Piktogramok

FlameExclamation mark

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

Veszélyességi osztályok

Eye Irrit. 2 - Flam. Sol. 1 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3 - Water-react 2

Célzott szervek

Respiratory system

Egyéb veszélyek

Tárolási osztály kódja

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

WGK

WGK 3

Lobbanási pont (F)

No data available

Lobbanási pont (C)

No data available

Egyéni védőeszköz

Eyeshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Surface morphology and crystallinity control in the atomic layer deposition (ALD) of hafnium and zirconium oxide thin films.
Hausmann DM & Gordon RG
Journal of Crystal Growth, 249.1, 251-261 (2003)
Atomic layer deposition of ZrO2 and HfO2 nanotubes by template replication
Gu D, et al.
Electrochemical and Solid-State Letters, 12.4, K25-K28 (2009)

Cikkek

This article describes the use and advantages of polyoxometalate-based redox-flow batteries as electrochemical energy storage systems over Li-ion batteries.

Thin film solid oxide fuel cells offer technical advantages; review of TF-SOFC deposition methods for electrolyte thin films.

Learn about the different low temperature direct alcohol fuel cells based on nanostructured material catalysts and anion exchange membrane fuel cells.

Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.

Összes mutatása

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással