Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(2)

Fontos dokumentumok

Összes dokumentáció megtekintése

669008

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV)

packaged for use in deposition systems

Szinonimák:

TDMAT, Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV)

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(2)

About This Item

Lineáris képlet:
[(CH3)2N]4Ti
CAS-szám:
3275-24-9
Molekulatömeg:
224.17
EC-szám:
221-904-3
MDL-szám:
MFCD00014861
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
24885015
NACRES:
NA.23

Minőségi szint

100

Teszt

99.999% (trace metals analysis)

Forma

liquid

reakcióalkalmasság

core: titanium

bp

50 °C/0.5 mmHg (lit.)

sűrűség

0.947 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

CN(C)[Ti](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Ti/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Általános leírás

Atomic number of base material: 22 Titanium

Alkalmazás

Precursors Packaged for Depositions Systems
The product is a precursor for the deposition of titanium dioxide thin films by atomic layer deposition with water. Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) (TDMAT) undergoes exothermal reaction with excess cyclopentadiene to yield tris(dimethylamido)(η5-cyclopentadienyl)titanium(IV).

Piktogramok

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

H225,H260,H314

Veszélyességi osztályok

Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Egyéb veszélyek

EUH014

Tárolási osztály kódja

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

WGK

WGK 3

Lobbanási pont (F)

-22.0 °F - closed cup

Lobbanási pont (C)

-30 °C - closed cup

Egyéni védőeszköz

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
SHBP1947
SHBL6315
80197MMV
80196MMV
10218DJV

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Journal of Applied Physics, 102, 083521/1-083521/1 (2007)
Mikami K, et al. et al.
Science of Synthesis: Houben-Weyl Methods of Molecular Transformations, 2, 494-494 (2014)
Matthew T McDowell et al.
ACS applied materials & interfaces, 7(28), 15189-15199 (2015-06-18)
Light absorbers with moderate band gaps (1-2 eV) are required for high-efficiency solar fuels devices, but most semiconducting photoanodes undergo photocorrosion or passivation in aqueous solution. Amorphous TiO2 deposited by atomic-layer deposition (ALD) onto various n-type semiconductors (Si, GaAs, GaP

Cikkek

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Dye-Sensitized and Perovskite Solar Cells

Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Összes mutatása

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással