Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(2)

Fontos dokumentumok

View All Documentation

663301

Sigma-Aldrich

Trimethylaluminum

packaged for use in deposition systems

Szinonimák:

Aluminum trimethanide, TMA

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(2)

About This Item

Lineáris képlet:
(CH3)3Al
CAS-szám:
75-24-1
Molekulatömeg:
72.09
Beilstein:
3587197
EC-szám:
200-853-0
MDL-szám:
MFCD00008252
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
24884629
NACRES:
NA.23

gőznyomás

69.3 mmHg ( 60 °C)

Minőségi szint

100

leírás

heat of vaporization: ~41.9 kJ/mol (Dimer)

Forma

liquid

reakcióalkalmasság

core: aluminum

bp

125-126 °C (lit.)
127 °C/760 mmHg
20 °C/8 mmHg
56 °C/50 mmHg

mp

15 °C (lit.)

sűrűség

0.752 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

C[Al](C)C

InChI

1S/3CH3.Al/h3*1H3;

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Általános leírás

Trimethylaluminum ismainly used in the industrial production of polyethylene and other syntheticpolymers, where it is used as a co-catalyst for the polymerization reaction. Itis also used as a precursor to produce inorganic aluminum compounds, includingalumina and various zeolites.

Alkalmazás

Precursors Packaged for Depositions Systems
Trimethylaluminum can be used as:
  • A chemical vapor deposition precursor to fabricate PbSe quantum dot solids for optoelectronic devices.
  • An aluminum precursor for the flame synthesis of alumina nanofibers.
  • A reagent for efficient synthesis of allenes.

Piktogramok

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

H250,H260,H314

Veszélyességi osztályok

Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Egyéb veszélyek

EUH014

Tárolási osztály kódja

4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials

WGK

nwg

Lobbanási pont (F)

No data available

Lobbanási pont (C)

No data available

Egyéni védőeszköz

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
SHBP1162
SHBL6474
SHBL1265
SHBK4017
SHBJ5671

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Az ügyfelek ezeket is megtekintették

Slide 1 of 1

1 of 1

Sure/Pac™ steel sample cylinder capacity 2.2 L, diam. 4.25 in.

Sigma-Aldrich

Z122645

Sure/Pac™ steel sample cylinder

Formation of alumina nanofibers in carbon-containing coflow laminar diffusion flames
Bing Guo, et al.
Journal of Aerosol Science, 40, 379-384 (2009)
Highly efficient synthesis of allenes from trimethylaluminum reagent and propargyl acetates mediated by a palladium catalyst
Qing-Han Li, et al.
European Journal of Organic Chemistry, 2014, 7916-7923 (2014)
Alexander C Kozen et al.
ACS nano, 9(6), 5884-5892 (2015-05-15)
Lithium metal is considered to be the most promising anode for next-generation batteries due to its high energy density of 3840 mAh g(-1). However, the extreme reactivity of the Li surface can induce parasitic reactions with solvents, contamination, and shuttled
Mahtab Farzin et al.
Pathology, 47(4), 302-307 (2015-05-06)
BRCA1-associated protein 1 (BAP1) is a tumour suppressor gene frequently inactivated in mesothelioma, rarely also in association with germline mutation. BAP1 mutations have been associated with improved prognosis and distinct clinicopathological features. We sought to determine the clinicopathological significance of
J L L Robinson et al.
Oncogene, 33(50), 5666-5674 (2013-12-03)
Castration-resistant prostate cancer (CRPC) continues to pose a significant clinical challenge with new generation second-line hormonal therapies affording limited improvement in disease outcome. As the androgen receptor (AR) remains a critical driver in CRPC, understanding the determinants of its transcriptional
View All Related Papers

Cikkek

Atomic Layer Deposition (ALD)

Atomic layer deposition (ALD) showcases innovation in novel structure synthesis, area-selective deposition, low-temperature deposition, and more.

Molecular Layer Deposition of Polymers

Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Összes mutatása

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással