Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(1)

Fontos dokumentumok

Összes dokumentáció megtekintése

698431

Sigma-Aldrich

Tetrakis(dimethylamido)tin(IV)

99.9% trace metals basis

Szinonimák:

Tin(IV) dimethylamide

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(1)

About This Item

Lineáris képlet:
[(CH3)2N]4Sn
CAS-szám:
1066-77-9
Molekulatömeg:
295.01
MDL-szám:
MFCD00014860
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
329761254
NACRES:
NA.23

Minőségi szint

100

Teszt

99.9% trace metals basis

Forma

liquid

reakcióalkalmasság

core: tin

SMILES string

CN(C)[Sn](N(C)C)(N(C)C)N(C)C

InChI

1S/4C2H6N.Sn/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

WHXTVQNIFGXMSB-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Általános leírás

Atomic number of base material: 50 Tin

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

H225,H302 + H312 + H332,H314

Veszélyességi osztályok

Acute Tox. 4 Oral - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B

Tárolási osztály kódja

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 3

Lobbanási pont (F)

18.0 °F - closed cup

Lobbanási pont (C)

-7.8 °C - closed cup

Egyéni védőeszköz

Faceshields, Gloves, Goggles

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
SHBS3258
SHBP7076
SHBP0562
SHBM6762
SHBM1031

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Az ügyfelek ezeket is megtekintették

Slide 1 of 1

1 of 1

Tetravinyltin 97%

Sigma-Aldrich

328669

Tetravinyltin

Sarai García-García et al.
Chemical science, 10(7), 2171-2178 (2019-03-19)
Atomic layer deposition is a chemical deposition technology that provides ultimate control over the conformality of films and their thickness, even down to Ångström-scale precision. Based on the marked superficial character and gas phase process of the technique, metal sources
Hao-Cheng Yang et al.
ACS nano, 12(8), 8678-8685 (2018-08-15)
Crude oil fouling on membrane surfaces is a persistent, crippling challenge in oil spill remediation and oilfield wastewater treatment. In this research, we present how a nanosized oxide coating can profoundly affect the anti-crude-oil property of membrane materials. Select oxide
Yasemin Saygili et al.
Chemphyschem : a European journal of chemical physics and physical chemistry, 19(11), 1363-1370 (2018-04-27)
In perovskite solar cells (PSCs), the most commonly used hole transport material (HTM) is spiro-OMeTAD, which is typically doped by metalorganic complexes, for example, based on Co, to improve charge transport properties and thereby enhance the photovoltaic performance of the
Benjamin Lamm et al.
ChemSusChem, 12(9), 1916-1924 (2018-12-21)
Bismuth vanadate (BiVO4 ) is promising for solar-assisted water splitting. The performance of BiVO4 is limited by charge separation for >70 nm films or by light harvesting for <700 nm films. To resolve this mismatch, host-guest architectures use thin film coatings on
Jixian Xu et al.
Science (New York, N.Y.), 367(6482), 1097-1104 (2020-03-07)
Wide-band gap metal halide perovskites are promising semiconductors to pair with silicon in tandem solar cells to pursue the goal of achieving power conversion efficiency (PCE) greater than 30% at low cost. However, wide-band gap perovskite solar cells have been

Cikkek

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással