Összes fotó(3)
Fontos dokumentumok
296066
Lithium dimethylamide
95%
Szinonimák:
Lithiodimethylamide
Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(3)
About This Item
Lineáris képlet:
(CH3)2NLi
CAS-szám:
Molekulatömeg:
51.02
Beilstein:
3618233
EC-szám:
MDL-szám:
UNSPSC kód:
12352111
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.22
Javasolt termékek
Minőségi szint
Teszt
95%
form
solid
funkcionális csoport
amine
SMILES string
[Li]N(C)C
InChI
1S/C2H6N.Li/c1-3-2;/h1-2H3;/q-1;+1
Nemzetközi kémiai azonosító kulcs
YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N
Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz
Alkalmazás
Lithium dimethylamide is used as a reagent in the synthesis of boron-nitrogen heterocycles and 2,2′?diborabiphenyl. It is a deprotecting agent which is employed in demethylation of bis(imino)pyridine ferrous dichloride for synthesizing ferrous amide-ate complexes.
Figyelmeztetés
Danger
Figyelmeztető mondatok
Óvintézkedésre vonatkozó mondatok
Veszélyességi osztályok
Pyr. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
Tárolási osztály kódja
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
WGK
WGK 3
Egyéni védőeszköz
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
Válasszon a legfrissebb verziók közül:
Már rendelkezik ezzel a termékkel?
Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.
Az ügyfelek ezeket is megtekintették
2, 2′-Diborabiphenyl: A Lewis Acid Analogue of 2, 2′-Bipyridine.
Emslie DJH, et al.
Angewandte Chemie (International Edition in English), 115(11), 1290-1293 (2003)
Bis (imino) pyridine ligand deprotonation promoted by a transient iron amide.
Bouwkamp MW, et al.
Inorganic Chemistry, 45(1), 2-4 (2006)
Richard O'Donoghue et al.
Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), 46(47), 16551-16561 (2017-11-22)
Herein we describe an efficient low temperature (60-160 °C) plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process for gallium oxide (Ga
Triphenylene analogues with B2N2C2 cores: synthesis, structure, redox behavior, and photophysical properties.
Jaska CA, et al.
Journal of the American Chemical Society, 128(33), 10885-10896 (2006)
Lukas Mai et al.
Chemistry (Weinheim an der Bergstrasse, Germany), 25(31), 7489-7500 (2019-03-15)
New precursor chemistries for the atomic layer deposition (ALD) of aluminium oxide are reported as potential alternatives to the pyrophoric trimethylaluminium (TMA) which is to date a widely used Al precursor. Combining the high reactivity of aluminium alkyls employing the
Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.
Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással