Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(3)

Fontos dokumentumok

View All Documentation

725471

Sigma-Aldrich

Bis(methyl-η5−cyclopentadienyl)methoxymethylzirconium

packaged for use in deposition systems

Szinonimák:

ZRCMMM, ZrD-CO4

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(3)

About This Item

Lineáris képlet:
Zr(CH3C5H4)2CH3OCH3
Molekulatömeg:
295.53
MDL-szám:
MFCD16875687
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
329764163
NACRES:
NA.23

Forma

liquid

reakcióalkalmasság

core: zirconium

szín

colorless

bp

110 °C/0.5 mmHg (lit.)

sűrűség

1.27 g/mL±0.01 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

C[C]1[C][C][C][C]1.C[C]2[C][C][C][C]2.C[Zr]OC

InChI

1S/2C6H7.CH3O.CH3.Zr/c2*1-6-4-2-3-5-6;1-2;;/h2*2-5H,1H3;1H3;1H3;/q;;-1;;+1

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

LFGIFPGCOXPKMG-UHFFFAOYSA-N

Related Categories

Általános leírás

Atomic number of base material: 40 Zirconium

Alkalmazás

Precursors Packaged for Depositions Systems
Advanced precursor for atomic layer deposition of ZrO2 thin films. Hafnium and zirconium oxides are leading candidates to replace silicion dioxide as the gate oxide in a variety of semiconductor and energy applications. Excellent properties of HfO2 and ZrO2 films make them especially attractive for gate oxide replacement and as potential insulating dielectrics for capacitive elements in memory devices such as DRAM.

Tulajdonságok és előnyök

Compatible with a variety of oxidants in ALD growth processes across a wide temperature range exhibiting self limiting growth up to 400 °C. Precursor volatility and thermal stability properties enable easy materials transport from bubblers into conventional deposition tools.

Kiszerelés

Packaged in stainless steel cylinders compatible with conventional deposition systems. Precursors may be used in liquid injection systems as dilute solutions and in combination with a variety of other sources to deposit mixed oxides.

Piktogramok

Exclamation mark
GHS07

Figyelmeztetés

Warning

Figyelmeztető mondatok

H302,H315,H319

Óvintézkedésre vonatkozó mondatok

P305 + P351 + P338

Veszélyességi osztályok

Acute Tox. 4 Oral - Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2

Tárolási osztály kódja

10 - Combustible liquids not in Storage Class 3

WGK

WGK 3

Lobbanási pont (F)

226.4 °F

Lobbanási pont (C)

108 °C

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
SHBM0105
16396PM

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Az ügyfelek ezeket is megtekintették

Slide 1 of 2

1 of 2

Trimethylgallium packaged for use in deposition systems

Sigma-Aldrich

730734

Trimethylgallium

Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) ≥99.99% trace metals basis

Sigma-Aldrich

553123

Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV)

J. W. Elama
Applied Physics Letters, 91, 253123-253123 (2007)
High-k gate dielectrics: current status and material properties considerations
Wilk, G.D.; Wallace, R.M.; Anthony, J.M.
Journal of Applied Physics, 89, 5243-5243 (2001)
Gutsche, M.; Seidl, H.; Luetzen J.; Birner, A.;
International Electron Devices Meeting, 18-18 (2001)

Cikkek

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Nanowire Synthesis: From Top-Down to Bottom-Up

The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.

Összes mutatása

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással