Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(1)

Fontos dokumentumok

View All Documentation

469947

Sigma-Aldrich

Tris(dimethylamido)aluminum(III)

Szinonimák:

Hexakis(dimethylamido)dialuminum, Tris(dimethylamino)alane dimer

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(1)

About This Item

Lineáris képlet:
Al(N(CH3)2)3
CAS-szám:
32093-39-3
Molekulatömeg:
159.21
MDL-szám:
MFCD00269811
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
24870625
NACRES:
NA.23

form

solid

Minőségi szint

100

reakcióalkalmasság

core: aluminum

mp

82-84 °C (lit.)

sűrűség

0.865 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C.CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/6C2H6N.2Al/c6*1-3-2;;/h6*1-2H3;;/q6*-1;2*+3

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

JGZUJELGSMSOID-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Általános leírás

Atomic number of base material: 13 Aluminum

Alkalmazás

Tris(dimethylamido)aluminum(III) may be used as a precursor to aluminum nitride (AlN) thin films by organometallic chemical vapor deposition (OMCVD).

Piktogramok

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

H260,H314

Veszélyességi osztályok

Skin Corr. 1B - Water-react 1

Egyéb veszélyek

EUH014

Tárolási osztály kódja

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

WGK

WGK 3

Lobbanási pont (F)

70.0 °F - closed cup

Lobbanási pont (C)

21.1 °C - closed cup

Egyéni védőeszköz

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
SHBM5898
SHBH1763V
SHBG5350V
SHBG0737V
SHBD7354V

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Az ügyfelek ezeket is megtekintették

Slide 1 of 1

1 of 1

Bis(trimethylaluminum)-1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane adduct

Sigma-Aldrich

682101

Bis(trimethylaluminum)-1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane adduct

Tris (dimethylamido) aluminum (III): An overlooked atomic layer deposition precursor.
Buttera SC, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films, 35(1), 01B128-01B128 (2017)

Cikkek

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Atomic Layer Deposition of Nanomaterials for Li-Ion Batteries, Fuel Cells, and Solar Cells

Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással