Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(1)

Fontos dokumentumok

View All Documentation

679208

Sigma-Aldrich

Methyltrichlorosilane

deposition grade, ≥98% (GC), ≥99.99% (as metals)

Szinonimák:

Trichloro(methyl)silane

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(1)

About This Item

Lineáris képlet:
CH3SiCl3
CAS-szám:
75-79-6
Molekulatömeg:
149.48
Beilstein:
1361381
EC-szám:
200-902-6
MDL-szám:
MFCD00000481
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
24885475
NACRES:
NA.23

grade

deposition grade

Minőségi szint

100

gőzsűrűség

5.2 (vs air)

gőznyomás

150 mmHg ( 25 °C)

Teszt

≥98% (GC)
≥99.99% (as metals)

Forma

liquid

öngyulladási hőmérséklet

>760 °F

robbanási határérték

11.9 %

törésmutató

n20/D 1.411 (lit.)

bp

66 °C (lit.)

sűrűség

1.273 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

C[Si](Cl)(Cl)Cl

InChI

1S/CH3Cl3Si/c1-5(2,3)4/h1H3

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Related Categories

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

H225,H302 + H312,H314,H331,H335

Veszélyességi osztályok

Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1A - STOT SE 3

Célzott szervek

Respiratory system

Tárolási osztály kódja

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 1

Lobbanási pont (F)

46.4 °F - closed cup

Lobbanási pont (C)

8 °C - closed cup

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
SHBF8026V
SHBF6342V
SHBF2673V
SHBD5576V
SHBD1841V

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Yingbin Ge et al.
The journal of physical chemistry. A, 111(8), 1475-1486 (2007-02-06)
The kinetics for the previously proposed 114-reaction mechanism for the chemical vapor deposition (CVD) process that leads from methyltrichlorosilane (MTS) to silicon carbide (SiC) are examined. Among the 114 reactions, 41 are predicted to proceed with no intervening barrier. For
W H Mullen et al.
Clinica chimica acta; international journal of clinical chemistry, 157(2), 191-198 (1986-06-15)
An enzyme electrode is described based upon the enzyme lactate oxidase (EC 1.1.3.2) coupled to an H2O2 sensor. Use of an organosilane-treated microporous membrane over the enzyme layer, allows responses linear to 18 mmol/l L-lactate with response times of 1-3
Ildikó Szabó et al.
Biopolymers, 88(1), 20-28 (2006-10-26)
Rearrangement of disulfide bonds during the synthesis of alpha-conotoxin GI using PhS(O)Ph/CH(3)SiCl(3) oxidation procedure was observed. We have demonstrated that the protecting scheme (order of acetamidomethyl (Acm) and (t)Bu protecting groups) of the Cys residues as well as the reaction
Yingbin Ge et al.
The journal of physical chemistry. A, 114(6), 2384-2392 (2010-01-29)
The rate constants for the gas-phase reactions in the silicon carbide chemical vapor deposition of methyltrichlorosilane (Ge, Y. B.; Gordon, M. S.; Battaglia, F.; Fox, R. O. J. Phys. Chem. A 2007, 111, 1462.) were calculated. Transition state theory was
Ana Gisela Cunha et al.
Journal of colloid and interface science, 344(2), 588-595 (2010-02-05)
This work describes a very simple, rapid, and efficient approach to the hydrophobization and lipophobization of cellulose fibers through their reaction with gaseous trichloromethylsilane (TCMS). The characterization of the modified surface involved FTIR-ATR and solid-state (29)Si NMR spectroscopy, scanning electron
View All Related Papers

Cikkek

Deposition Grade Silanes for Sol-Gel Processes

Deposition Grade Silanes, fully characterized by chemical analysis and nuclear magnetic resonance (NMR) with greater than 98% purity, for Sol-Gel Processes.

Sol-Gel Science for Ceramic Materials

Reactive silicone chemistry: Focus on pure silicon production, polymerizations, and controlled stereochemistry reactions.

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

Green Synthesis of Nanomaterials

Silica's versatility spans various industries, including biomedical applications.

Összes mutatása

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással