Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(1)

Fontos dokumentumok

View All Documentation

379212

Sigma-Aldrich

Hexamethyldisilazane

ReagentPlus®, 99.9%

Szinonimák:

1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane, HMDS

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(1)

About This Item

Lineáris képlet:
(CH3)3SiNHSi(CH3)3
CAS-szám:
999-97-3
Molekulatömeg:
161.39
Beilstein:
635752
EC-szám:
213-668-5
MDL-szám:
MFCD00008259
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
24863226
NACRES:
NA.23

Minőségi szint

200

termékcsalád

ReagentPlus®

Teszt

99.9%

form

liquid

törésmutató

n20/D 1.407 (lit.)

bp

125 °C (lit.)

SMILES string

C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C

InChI

1S/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Related Categories

Általános leírás

Hexamethyldisilazane (HDMS) is an organoslicon compound. HDMS is a colorless liquid used as a reagent and precursor in organic synthesis and organometallic chemistry. It is also used as a sol-gel precursor to fabricate thin films for semiconductor devices.

Alkalmazás

Hexamethyldisilazane can be used:
  • As a precursor to fabricate multilayer quantum dot light-emitting diodes.
  • To modify dielectric surfaces of organic thin film transistors.
  • To fabricate superhydrophobic coatings on epoxy resins.
  • For the silylation of alcohols and phenols.

Jogi információk

ReagentPlus is a registered trademark of Merck KGaA, Darmstadt, Germany

Piktogramok

FlameSkull and crossbones
GHS02,GHS06

Figyelmeztetés

Danger

Figyelmeztető mondatok

H225,H302 + H332,H311,H412

Veszélyességi osztályok

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 3 - Flam. Liq. 2

Tárolási osztály kódja

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 2

Lobbanási pont (F)

52.5 °F - closed cup

Lobbanási pont (C)

11.4 °C - closed cup

Egyéni védőeszköz

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
SHBM6136
SHBJ6186
SHBH7587
SHBG6192V
SHBF8354V

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Az ügyfelek ezeket is megtekintették

Slide 1 of 3

1 of 3

Hexamethyldisilazane for GC derivatization, LiChropur™, ≥99.0% (GC)

Supelco

52619

Hexamethyldisilazane

Hexamethyldisiloxane puriss., ≥98.5% (GC)

Sigma-Aldrich

52630

Hexamethyldisiloxane

Hexamethyldisilazane produced by Wacker Chemie AG, Burghausen, Germany, ≥97.0% (GC)

Sigma-Aldrich

86944

Hexamethyldisilazane

D F Bray et al.
Microscopy research and technique, 26(6), 489-495 (1993-12-15)
Three different drying methods, critical-point drying (CPD), Peldri II, and hexamethyldisilazane (HMDS), were compared using representative animal (rat kidney, trachea, duodenum, lung, and red blood cells) and plant (leaves from ten species of monocotyledons and dicotyledons) specimens. All three drying
Ar/HMDS Plasma Jet as a Tool for Superhydrophobic Coatings on Epoxy Resin
Jingang Wang, et al.
Nanotechnology, IEEE Transactions, 50, 1867-1874 (2022)
Hexamethyldisilazane-mediated full-solution-processed inverted quantum dot-light-emitting diodes
Yan Fu, et al.
Journal of Materials Chemistry, 5, 522-526 (2017)
A simple and efficient room temperature silylation of diverse functional groups with hexamethyldisilazane using CeO2 nanoparticles as solid catalysts
Nagaraj Anbu, et al
Molecular Catalysis, 474, 110357-110357 (2019)
G Chiavari et al.
Journal of chromatography. A, 922(1-2), 235-241 (2001-08-07)
Alpha-amino acids were pyrolysed at 600 degrees C in the presence of hexamethyldisilazane (HMDS) and the formed volatile products were analysed on line by gas chromatography-mass spectrometry (GC-MS). Glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, norleucine, methionine, phenylalanine yielded principally the trimethylsilyl
View All Related Papers

Cikkek

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

Progress in Spintronic Materials

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes

Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes

Nanowire Synthesis: From Top-Down to Bottom-Up

The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással