Összes fotó(1)
Fontos dokumentumok
Összes fotó(1)
About This Item
Tapasztalati képlet (Hill-képlet):
HfO2
CAS-szám:
Molekulatömeg:
210.49
EC-szám:
MDL-szám:
UNSPSC kód:
12352303
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23
Javasolt termékek
Minőségi szint
Teszt
98%
Forma
powder
sűrűség
9.68 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
O=[Hf]=O
InChI
1S/Hf.2O
Nemzetközi kémiai azonosító kulcs
CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N
Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz
Alkalmazás
- Hafnium(IV) oxide: Utilized predominantly in the semiconductor industry, Hafnium(IV) oxide offers excellent thermal and chemical stability, which makes it suitable as a high-k gate dielectric material in metal-oxide-semiconductor (MOS) devices. Its application has become increasingly important with the miniaturization of electronic components, aiding in the enhancement of transistor performance without further reducing the component size. This role is critical in the development of more efficient, faster computing technologies (Sigma-Aldrich, CAS 12055-23-1).
Tárolási osztály kódja
11 - Combustible Solids
WGK
nwg
Lobbanási pont (F)
Not applicable
Lobbanási pont (C)
Not applicable
Egyéni védőeszköz
Eyeshields, Gloves, type N95 (US)
Válasszon a legfrissebb verziók közül:
Már rendelkezik ezzel a termékkel?
Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.
Az ügyfelek ezeket is megtekintették
Cikkek
In recent years silicon carbide, SiC, has re-emerged as a vital technological material that is crucial in many materials and engineering applications.
Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.
Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással