Összes fotó(1)
Fontos dokumentumok
87921
Tetramethylsilane
≥99.0% (GC)
Szinonimák:
TMS
Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(1)
About This Item
Lineáris képlet:
Si(CH3)4
CAS-szám:
Molekulatömeg:
88.22
Beilstein:
1696908
EC-szám:
MDL-szám:
UNSPSC kód:
12352103
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.22
Javasolt termékek
gőznyomás
11.66 psi ( 20 °C)
Minőségi szint
Teszt
≥99.0% (GC)
form
liquid
öngyulladási hőmérséklet
842 °F
törésmutató
n20/D 1.358 (lit.)
n20/D 1.359
bp
26-28 °C (lit.)
mp
−99 °C (lit.)
sűrűség
0.648 g/mL at 25 °C (lit.)
tárolási hőmérséklet
2-8°C
SMILES string
C[Si](C)(C)C
InChI
1S/C4H12Si/c1-5(2,3)4/h1-4H3
Nemzetközi kémiai azonosító kulcs
CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N
Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz
Related Categories
Alkalmazás
Tetramethylsilane can be used as a silicon precursor for the synthesis of silicon doped diamond-like carbon (DLC-Si) films and silicon carbide (SiC) bulk crystals. It can also be used as a hydrocarbon substrate to study intermolecular C-H activation chemistry.
Figyelmeztetés
Danger
Figyelmeztető mondatok
Óvintézkedésre vonatkozó mondatok
Veszélyességi osztályok
Flam. Liq. 1
Tárolási osztály kódja
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 3
Lobbanási pont (F)
-16.6 °F - closed cup
Lobbanási pont (C)
-27 °C - closed cup
Egyéni védőeszköz
Eyeshields, Faceshields, Gloves
Válasszon a legfrissebb verziók közül:
Már rendelkezik ezzel a termékkel?
Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.
Az ügyfelek ezeket is megtekintették
High-temperature chemical vapor deposition for SiC single crystal bulk growth using tetramethylsilane as a precursor.
Nam DH, et al.
Crystal Growth & Design, 14(11), 5569-5574 (2014)
The effects of Si incorporation on the electrochemical and nanomechanical properties of DLC thin films.
Papakonstantinou P, et al.
Diamond and Related Materials, 11(3-6), 1074-1080 (2002)
The mechanical and biocompatibility properties of DLC-Si films prepared by pulsed DC plasma activated chemical vapor deposition.
Bendavid A, et al.
Diamond and Related Materials, 16(8), 1616-1622 (2007)
Intermolecular C- H Activation of Hydrocarbons by Tungsten Alkylidene Complexes: An Experimental and Computational Mechanistic Study.
Adams CS, et al.
Organometallics, 20(23), 4939-4955 (2001)
Jose C Pichardo et al.
Journal of nuclear medicine : official publication, Society of Nuclear Medicine, 52(9), 1482-1489 (2011-07-30)
The current gold standard for measuring marrow cellularity is the bone marrow (BM) biopsy of the iliac crest. This measure is not predictive of total marrow cellularity, because the biopsy volume is typically small and fat fraction varies across the
Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.
Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással