Fontos dokumentumok
730734
Trimethylgallium
packaged for use in deposition systems
Szinonimák:
Me3Ga, TMGa, TMG
About This Item
Javasolt termékek
Minőségi szint
Forma
liquid
reakcióalkalmasság
core: gallium
bp
92.5 °C/760 mmHg (lit.)
mp
-15.8 °C (lit.)
sűrűség
1.132 g/mL at 25 °C
SMILES string
C[Ga](C)C
InChI
1S/3CH3.Ga/h3*1H3;
Nemzetközi kémiai azonosító kulcs
XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N
Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz
Related Categories
Általános leírás
Figyelmeztetés
Danger
Figyelmeztető mondatok
Óvintézkedésre vonatkozó mondatok
Veszélyességi osztályok
Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
Egyéb veszélyek
Tárolási osztály kódja
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
WGK
WGK 3
Válasszon a legfrissebb verziók közül:
Már rendelkezik ezzel a termékkel?
Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.
Cikkek
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition
Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.
The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.
Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.
Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással