Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(4)

Kluczowe dokumenty

Wyświetl całą dokumentację

553468

Sigma-Aldrich

Tris(tert-butoxy)silanol

99.999%

Synonim(y):

TBS

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych

Wybierz wielkość

5 G
473,00 zł
25 G
1780,00 zł

473,00 zł

Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Poproś o zamówienie zbiorcze
Wszystkie zdjęcia(4)

Wybierz wielkość

Zmień widok
5 G
473,00 zł
25 G
1780,00 zł

About This Item

Wzór liniowy:
((CH3)3CO)3SiOH
Numer CAS:
18166-43-3
Masa cząsteczkowa:
264.43
Numer MDL:
MFCD00271024
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
24879332
NACRES:
NA.23

473,00 zł

Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Poproś o zamówienie zbiorcze

Poziom jakości

100

Próba

99.999%

Formularz

solid

bp

205-210 °C (lit.)

mp

63-65 °C (lit.)

ciąg SMILES

CC(C)(C)O[Si](O)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C

InChI

1S/C12H28O4Si/c1-10(2,3)14-17(13,15-11(4,5)6)16-12(7,8)9/h13H,1-9H3

Klucz InChI

HLDBBQREZCVBMA-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Powiązane kategorie

Opis ogólny

Tris(tert-butoxy)silanol can react with various metal alkyl amides to act as precursors for vapor deposition metal silicates. It also acts as a suitable precursor for deposition of silica.[1]

Zastosowanie

Tris(tert-alkoxy)silanols reacts with tetrakis(dimethylamino)-hafnium vapor(Hf(N(CH3)2)4) for vapor phase deposition of hafnium silicate glass films.[1] Tris(tert-butoxy)silanol is used for atomic layer deposition (ALD) of highly conformal layers of amorphous silicon dioxide and aluminum oxide nanolaminates.[2][3]
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.

Kod klasy składowania

11 - Combustible Solids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

Not applicable

Temperatura zapłonu (°C)

Not applicable

Środki ochrony indywidualnej

Eyeshields, Gloves, type N95 (US)

Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number
SHBQ8219
SHBQ4913
SHBP7049
SHBL5061
SHBL0342

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Wyszukaj dokument COA

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Rapid vapor deposition of highly conformal silica nanolaminates.
Hausmann D, et al.
Science, 298(5592), 402-406 null
Rapid SiO2 Atomic Layer Deposition Using Tris(tert-pentoxy)silanol.
Burton B, et al.
Chemistry of Materials, 20, 7031-7043 (2008)
Vapor deposition of metal oxides and silicates: Possible gate insulators for future microelectronics.
Gordon G, et al.
Chemistry of Materials, 13(8), 2463-2464 (2001)
Jonathan Stewart et al.
Modern pathology : an official journal of the United States and Canadian Academy of Pathology, Inc, 28(3), 428-436 (2014-09-27)
The oncogenic role of WNT is well characterized. Wntless (WLS) (also known as GPR177, or Evi), a key modulator of WNT protein secretion, was recently found to be highly overexpressed in malignant astrocytomas. We hypothesized that this molecule may be
Pedro A Dionísio et al.
Neurobiology of aging, 36(1), 228-240 (2014-12-03)
Alzheimer's disease (AD) is a neurodegenerative disorder hallmarked by the accumulation of extracellular amyloid-β (Aβ) peptide and intraneuronal hyperphosphorylated tau, as well as chronic neuroinflammation. Tauroursodeoxycholic acid (TUDCA) is an endogenous anti-apoptotic bile acid with potent neuroprotective properties in several
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

Progress in Spintronic Materials

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes

Hybrid organic-inorganic sol-gel materials containing silica were first called “ORMOSILs” in 1984.

Questions

Reviews

No rating value

Active Filters

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej