Ugrás a tartalomra
Merck
Összes fotó(2)

Fontos dokumentumok

View All Documentation

449628

Sigma-Aldrich

Aluminum fluoride

anhydrous, powder, 99.8% trace metals basis

Szinonimák:

Aluminum trifluoride, Trifluoroaluminum

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez
Összes fotó(2)

About This Item

Lineáris képlet:
AlF3
CAS-szám:
7784-18-1
Molekulatömeg:
83.98
EC-szám:
232-051-1
MDL-szám:
MFCD00003426
UNSPSC kód:
12352302
PubChem Substance ID:
24868496
NACRES:
NA.23

grade

anhydrous

Minőségi szint

100

Teszt

99.8% trace metals basis

form

powder

szennyeződések

≤1,000.0 ppm Trace Metal Analysis

mp

1290 °C (lit.)

sűrűség

3.1 g/mL at 25 °C (lit.)

alkalmazás(ok)

battery manufacturing

SMILES string

F[Al](F)F

InChI

1S/Al.3FH/h;3*1H/q+3;;;/p-3

Nemzetközi kémiai azonosító kulcs

KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K

Looking for similar products? Látogasson el ide Útmutató a termékösszehasonlításhoz

Tárolási osztály kódja

13 - Non Combustible Solids

WGK

WGK 1

Lobbanási pont (F)

Not applicable

Lobbanási pont (C)

Not applicable

Egyéni védőeszköz

dust mask type N95 (US), Eyeshields, Gloves

Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number
MKCP2977
MKCL9533
MKCH2369
MKCC7377
MKBT3105V

Nem találja a megfelelő verziót?

Ha egy adott verzióra van szüksége, a tétel- vagy cikkszám alapján rákereshet egy adott tanúsítványra.

COA keresése

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Az ügyfelek ezeket is megtekintették

Slide 1 of 1

1 of 1

Titanium(III) fluoride

Sigma-Aldrich

399817

Titanium(III) fluoride

Sun, Y.-K.; et al.
Electrochemical Communications, 8, 821-821 (2006)
Electronics Letters, 32, 1586-1586 (1996)
Optics Communications, 132, 73-73 (1996)
Cheng-Chung Lee et al.
Applied optics, 44(34), 7333-7338 (2005-12-16)
Aluminum fluoride (AlF3) was deposited by a resistive heating boat. To obtain a low optical loss and high laser-induced damage threshold (LIDT) at 193 nm, the films were investigated under different substrate temperatures, deposition rates, and annealing after coating. The
Lecoq, A.; et al.
Non-Cryst. Solids, 41, 209-209 (1980)
View All Related Papers

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással