Transportation information can be found in Section 14 of the product's (M)SDS.To access the shipping information for this material, use the link on the product detail page for the product.
Wszystkie zdjęcia(3)
Kluczowe dokumenty
725471
Bis(methyl-η5−cyclopentadienyl)methoxymethylzirconium
packaged for use in deposition systems
Synonim(y):
ZRCMMM, ZrD-CO4
Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wybierz wielkość
10 G
5110,00 zł
5110,00 zł
Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Poproś o zamówienie zbiorcze
Wybierz wielkość
Zmień widok
10 G
5110,00 zł
About This Item
Wzór liniowy:
Zr(CH3C5H4)2CH3OCH3
Masa cząsteczkowa:
295.53
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.23
5110,00 zł
Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Poproś o zamówienie zbiorcze
Polecane produkty
Formularz
liquid
przydatność reakcji
core: zirconium
kolor
colorless
bp
110 °C/0.5 mmHg (lit.)
gęstość
1.27 g/mL±0.01 g/mL at 25 °C (lit.)
ciąg SMILES
C[C]1[C][C][C][C]1.C[C]2[C][C][C][C]2.C[Zr]OC
InChI
1S/2C6H7.CH3O.CH3.Zr/c2*1-6-4-2-3-5-6;1-2;;/h2*2-5H,1H3;1H3;1H3;/q;;-1;;+1
Klucz InChI
LFGIFPGCOXPKMG-UHFFFAOYSA-N
Powiązane kategorie
Opis ogólny
Atomic number of base material: 40 Zirconium
Zastosowanie
Advanced precursor for atomic layer deposition of ZrO2 thin films. Hafnium and zirconium oxides are leading candidates to replace silicion dioxide as the gate oxide in a variety of semiconductor and energy applications.[1] Excellent properties of HfO2 and ZrO2 films make them especially attractive for gate oxide replacement and as potential insulating dielectrics for capacitive elements in memory devices such as DRAM.[2]
Cechy i korzyści
Compatible with a variety of oxidants in ALD growth processes across a wide temperature range exhibiting self limiting growth up to 400 °C. Precursor volatility and thermal stability properties enable easy materials transport from bubblers into conventional deposition tools.
Opakowanie
Packaged in stainless steel cylinders compatible with conventional deposition systems. Precursors may be used in liquid injection systems as dilute solutions and in combination with a variety of other sources to deposit mixed oxides.
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.
Hasło ostrzegawcze
Warning
Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia
Zwroty wskazujące środki ostrożności
Klasyfikacja zagrożeń
Acute Tox. 4 Oral - Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2
Kod klasy składowania
10 - Combustible liquids not in Storage Class 3
Klasa zagrożenia wodnego (WGK)
WGK 3
Temperatura zapłonu (°F)
226.4 °F
Temperatura zapłonu (°C)
108 °C
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Certyfikaty analizy (CoA)
Lot/Batch Number
Nie widzisz odpowiedniej wersji?
Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Klienci oglądali również te produkty
J. W. Elama
Applied Physics Letters, 91, 253123-253123 (2007)
Gutsche, M.; Seidl, H.; Luetzen J.; Birner, A.;
International Electron Devices Meeting, 18-18 (2001)
High-k gate dielectrics: current status and material properties considerations
Wilk, G.D.; Wallace, R.M.; Anthony, J.M.
Journal of Applied Physics, 89, 5243-5243 (2001)
Produkty
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition
Thin film photovoltaic devices have become increasingly important in efficiently harnessing solar energy to meet consumer demand.
Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.
-
What is the Department of Transportation shipping information for this product?
1 answer-
Helpful?
-
Active Filters
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej
