Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(2)

Dokumenty

668729

Sigma-Aldrich

Diethylzinc

packaged for use in deposition systems

Synonim(y):

DEZn, Et2Zn, DEZ, Zincdiethyl

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(2)

About This Item

Wzór liniowy:
(C2H5)2Zn
Numer CAS:
557-20-0
Masa cząsteczkowa:
123.51
Beilstein:
3587207
Numer WE:
209-161-3
Numer MDL:
MFCD00009021
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
24885000
NACRES:
NA.23

Postać

liquid

współczynnik refrakcji

n20/D 1.498 (lit.)

tw

117 °C (lit.)

mp

−28 °C (lit.)

gęstość

1.205 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

CC[Zn]CC

InChI

1S/2C2H5.Zn/c2*1-2;/h2*1H2,2H3;

Klucz InChI

HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Powiązane kategorie

Opis ogólny

Atomic number of base material: 30 Zinc

Zastosowanie

Precursors Packaged for Depositions Systems
Reacted with water in a low temperature (<200°C) atomic layer deposition of polycrystalline ZnO layers displaying exciton photoluminescence at room temperature.
This page may contain text that has been machine translated.

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H250,H260,H314,H410

Klasyfikacja zagrożeń

Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Zagrożenia dodatkowe

EUH014

Kod klasy składowania

4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

Not applicable

Temperatura zapłonu (°C)

Not applicable

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Slide 1 of 2

1 of 2

Vanadium(V) oxytriisopropoxide packaged for use in deposition systems

Sigma-Aldrich

736007

Vanadium(V) oxytriisopropoxide

Titanium(IV) isopropoxide packaged for use in deposition systems

Sigma-Aldrich

687502

Titanium(IV) isopropoxide

Journal of Applied Physics, 103, 033515-033515 (2008)
Isabelle Bonnaventure et al.
The Journal of organic chemistry, 73(16), 6330-6340 (2008-07-22)
The hemilabile ligand Me-DuPHOS(O) 2 has proven to be a successful ligand for the copper-catalyzed addition of diethylzinc to N-phosphinoylimines. The corresponding alpha-chiral amines were obtained in high yields (80-98%) and enantiomeric ratios (19.0:1 to 99.0:1 er). Furthermore, this Cu*
Weimin Lin et al.
The Journal of organic chemistry, 74(2), 645-651 (2008-12-06)
The application of a zinc carbenoid-mediated chain-extension reaction to a functionalized peptide isostere is reported. The cleavage site of human CVM protease was utilized as a target for testing the synthetic methodology. The utility of this chain-extension reaction is demonstrated
Abu Bakar Md et al.
Chemical & pharmaceutical bulletin, 56(1), 57-59 (2008-01-08)
N-Heterocyclic carbenes (NHCs) were generated in-situ from imidazolium and imidazolinium salts by deprotonation of C-2 hydrogen and were used as ligands in the copper-catalyzed addition of diethylzinc to N-sulfonylimines. The copper-NHC complexes were shown to possess an efficient ligand acceleration
Efficient chirality switching in the addition of diethylzinc to aldehydes in the presence of simple chiral alpha-amino amides.
M Isabel Burguete et al.
Angewandte Chemie (International ed. in English), 46(47), 9002-9005 (2007-09-26)
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

Osadzanie warstw molekularnych polimerów

Osadzanie warstw atomowych spełnia różne potrzeby, w tym miniaturyzację urządzeń półprzewodnikowych i powlekanie nanocząstek.

Molecular Layer Deposition of Polymers

Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.

Savannah ALD System for Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.

Dye-Sensitized and Perovskite Solar Cells

Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.

Zobacz wszystko

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej