Przejdź do zawartości
Merck

257222

Sigma-Aldrich

Trimethylaluminum

97%

Synonim(y):

Aluminum trimethanide, TMA

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych


About This Item

Wzór liniowy:
(CH3)3Al
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
72.09
Beilstein:
3587197
Numer WE:
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.23

ciśnienie pary

69.3 mmHg ( 60 °C)

Poziom jakości

opis

heat of vaporization: ~41.9 kJ/mol (dimer)

Próba

97%

Postać

liquid

przydatność reakcji

core: aluminum

tw

125-126 °C (lit.)
127 °C/760 mmHg
20 °C/8 mmHg
56 °C/50 mmHg

mp

15 °C (lit.)

gęstość

0.752 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

C[Al](C)C

InChI

1S/3CH3.Al/h3*1H3;

Klucz InChI

JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Opis ogólny

Trimethylaluminum (TMA) is a widely used precursor in the chemical vapor deposition (CVD) process to produce thin films in various applications. TMA is highly reactive and pyrophoric, which makes it an effective source of aluminum in thin film deposition processes to improve optoelectronic properties, such as enhanced light absorption and carrier transport characteristics.

Zastosowanie

Trimethylaluminum can be used:
  • As a growth initiator to synthesize self-assembled aluminum nanoparticles via atomic layer deposition.
  • As a precursor to synthesize aluminum-doped ZnO thin films(AZO) for electron transport layer of perovskite solar cells. TMA enhances electrical conductivity and thermal stability of perovskite layers.
  • To fabricate Al2O3-coated Si-alloy anodes for Li-ion batteries. This coating helps to suppress the volume expansion of Si and improves cell stability.
  • To fabricate Al2O3-coated graphite electrode with superior anti-self-discharging behavior (260 h) with long stability (900 cycles), for Al-ion battery.

Opakowanie

Supplied in a Sure/Pac cylinder with a 1/4-turn bronze ball valve (Z122661) installed. This has a female 1/4"" NPT outlet thread and is closed with a male 1/4"" NPT carbon steel plug. The plug must be removed before use after ensuring the valve is in the closed position.

Compatible with the following:For instructions please refer to technical bulletin AL-136: The Aldrich Sure/Pac Cylinder System

Inne uwagi

Storage below 20°C may cause crystallization.

Informacje prawne

Aldrich is a registered trademark of Sigma-Aldrich Co. LLC
Sure/Pac is a trademark of Sigma-Aldrich Co. LLC
This page may contain text that has been machine translated.

adapter wlotu septy

Numer produktu
Opis
Cennik

najczęściej kupowane z tym produktem

Numer produktu
Opis
Cennik

Piktogramy

FlameCorrosion

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

Klasyfikacja zagrożeń

Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1

Zagrożenia dodatkowe

Kod klasy składowania

4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

nwg

Temperatura zapłonu (°F)

No data available

Temperatura zapłonu (°C)

No data available

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Metalorganic chemical vapor deposition of Al2O3 using trimethylaluminum and O2 precursors: Growth mechanism and crystallinity
Liu X, et al.
Journal of Crystal Growth, 408, 78-84 (2014)
Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion
Oili ME, et al.
Thin Solid Films, 552, 124-135 (2014)
Photo-induced current and its degradation in Al4C3/Al2O3 (0001) grown by metalorganic chemical vapor deposition
Kim D, et al.
Thin Solid Films, 557, 216-221 (2014)
Emese Zsiros et al.
Clinical cancer research : an official journal of the American Association for Cancer Research, 21(12), 2840-2850 (2015-02-26)
Chemokines are implicated in T-cell trafficking. We mapped the chemokine landscape in advanced stage ovarian cancer and characterized the expression of cognate receptors in autologous dendritic cell (DC)-vaccine primed T cells in the context of cell-based immunotherapy. The expression of
Patricia A Mote et al.
Breast cancer research and treatment, 151(2), 309-318 (2015-04-29)
Progesterone receptor (PR) function, while essential in normal human breast, is also implicated in breast cancer risk. The two progesterone receptors, PRA and PRB, are co-expressed at equivalent levels in normal breast, but early in carcinogenesis normal levels of PRA:PRB

Produkty

Atomic layer deposition (ALD) showcases innovation in novel structure synthesis, area-selective deposition, low-temperature deposition, and more.

Osadzanie warstw atomowych (ALD) prezentuje innowacje w zakresie syntezy nowych struktur, osadzania selektywnego obszarowo, osadzania w niskich temperaturach i nie tylko.

Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.

Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.

Zobacz wszystko

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej