257222
Trimethylaluminum
97%
Synonim(y):
Aluminum trimethanide, TMA
About This Item
Polecane produkty
ciśnienie pary
69.3 mmHg ( 60 °C)
Poziom jakości
opis
heat of vaporization: ~41.9 kJ/mol (dimer)
Próba
97%
Postać
liquid
przydatność reakcji
core: aluminum
tw
125-126 °C (lit.)
127 °C/760 mmHg
20 °C/8 mmHg
56 °C/50 mmHg
mp
15 °C (lit.)
gęstość
0.752 g/mL at 25 °C (lit.)
ciąg SMILES
C[Al](C)C
InChI
1S/3CH3.Al/h3*1H3;
Klucz InChI
JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N
Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów
Opis ogólny
Zastosowanie
- As a growth initiator to synthesize self-assembled aluminum nanoparticles via atomic layer deposition.
- As a precursor to synthesize aluminum-doped ZnO thin films(AZO) for electron transport layer of perovskite solar cells. TMA enhances electrical conductivity and thermal stability of perovskite layers.
- To fabricate Al2O3-coated Si-alloy anodes for Li-ion batteries. This coating helps to suppress the volume expansion of Si and improves cell stability.
- To fabricate Al2O3-coated graphite electrode with superior anti-self-discharging behavior (260 h) with long stability (900 cycles), for Al-ion battery.
Opakowanie
Compatible with the following:
- Aldrich® Sure/Pac™ station for liquefied gases Z566446
- PTFE Sealing tape Z104388 or Z221880
- Straight septum-inlet adapter Z118141 with septa Z565687 or Z565695
Inne uwagi
Informacje prawne
adapter wlotu septy
najczęściej kupowane z tym produktem
polecane
Hasło ostrzegawcze
Danger
Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia
Zwroty wskazujące środki ostrożności
Klasyfikacja zagrożeń
Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
Zagrożenia dodatkowe
Kod klasy składowania
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
Klasa zagrożenia wodnego (WGK)
nwg
Temperatura zapłonu (°F)
No data available
Temperatura zapłonu (°C)
No data available
Środki ochrony indywidualnej
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
Certyfikaty analizy (CoA)
Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Klienci oglądali również te produkty
Produkty
Atomic layer deposition (ALD) showcases innovation in novel structure synthesis, area-selective deposition, low-temperature deposition, and more.
Osadzanie warstw atomowych (ALD) prezentuje innowacje w zakresie syntezy nowych struktur, osadzania selektywnego obszarowo, osadzania w niskich temperaturach i nie tylko.
Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.
Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej