Wszystkie zdjęcia(3)
Kluczowe dokumenty
296066
Lithium dimethylamide
95%
Synonim(y):
Lithiodimethylamide
Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wybierz wielkość
10 G
735,00 zł
50 G
2370,00 zł
735,00 zł
Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Poproś o zamówienie zbiorcze
Wybierz wielkość
Zmień widok
10 G
735,00 zł
50 G
2370,00 zł
About This Item
Wzór liniowy:
(CH3)2NLi
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
51.02
Beilstein:
3618233
Numer WE:
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352111
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.22
735,00 zł
Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Poproś o zamówienie zbiorcze
Polecane produkty
Poziom jakości
Próba
95%
Formularz
solid
grupa funkcyjna
amine
ciąg SMILES
[Li]N(C)C
InChI
1S/C2H6N.Li/c1-3-2;/h1-2H3;/q-1;+1
Klucz InChI
YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N
Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów
Powiązane kategorie
Zastosowanie
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.
Hasło ostrzegawcze
Danger
Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia
Zwroty wskazujące środki ostrożności
Klasyfikacja zagrożeń
Pyr. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
Kod klasy składowania
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
Klasa zagrożenia wodnego (WGK)
WGK 3
Środki ochrony indywidualnej
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Klienci oglądali również te produkty
2, 2′-Diborabiphenyl: A Lewis Acid Analogue of 2, 2′-Bipyridine.
Emslie DJH, et al.
Angewandte Chemie (International Edition in English), 115(11), 1290-1293 (2003)
Bis (imino) pyridine ligand deprotonation promoted by a transient iron amide.
Bouwkamp MW, et al.
Inorganic Chemistry, 45(1), 2-4 (2006)
Triphenylene analogues with B2N2C2 cores: synthesis, structure, redox behavior, and photophysical properties.
Jaska CA, et al.
Journal of the American Chemical Society, 128(33), 10885-10896 (2006)
Richard O'Donoghue et al.
Dalton transactions (Cambridge, England : 2003), 46(47), 16551-16561 (2017-11-22)
Herein we describe an efficient low temperature (60-160 °C) plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) process for gallium oxide (Ga
Lukas Mai et al.
Chemistry (Weinheim an der Bergstrasse, Germany), 25(31), 7489-7500 (2019-03-15)
New precursor chemistries for the atomic layer deposition (ALD) of aluminium oxide are reported as potential alternatives to the pyrophoric trimethylaluminium (TMA) which is to date a widely used Al precursor. Combining the high reactivity of aluminium alkyls employing the
Active Filters
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej
