Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Kluczowe dokumenty

Wyświetl całą dokumentację

679208

Sigma-Aldrich

Methyltrichlorosilane

deposition grade, ≥98% (GC), ≥99.99% (as metals)

Synonim(y):

Trichloro(methyl)silane

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych

Wybierz wielkość

50 G
254,00 zł

254,00 zł

Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Poproś o zamówienie zbiorcze
Wszystkie zdjęcia(1)

Wybierz wielkość

Zmień widok
50 G
254,00 zł

About This Item

Wzór liniowy:
CH3SiCl3
Numer CAS:
75-79-6
Masa cząsteczkowa:
149.48
Beilstein:
1361381
Numer WE:
200-902-6
Numer MDL:
MFCD00000481
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
24885475
NACRES:
NA.23

254,00 zł

Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
Poproś o zamówienie zbiorcze

klasa czystości

deposition grade

Poziom jakości

100

gęstość pary

5.2 (vs air)

ciśnienie pary

150 mmHg ( 25 °C)

Próba

≥98% (GC)
≥99.99% (as metals)

Formularz

liquid

temp. samozapłonu

>760 °F

granice wybuchowości

11.9 %

współczynnik refrakcji

n20/D 1.411 (lit.)

bp

66 °C (lit.)

gęstość

1.273 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

C[Si](Cl)(Cl)Cl

InChI

1S/CH3Cl3Si/c1-5(2,3)4/h1H3

Klucz InChI

JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Powiązane kategorie

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H225,H302 + H312,H314,H331,H335

Klasyfikacja zagrożeń

Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1A - STOT SE 3

Organy docelowe

Respiratory system

Kod klasy składowania

3 - Flammable liquids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 1

Temperatura zapłonu (°F)

46.4 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

8 °C - closed cup

Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number
SHBF8026V
SHBF6342V
SHBF2673V
SHBD5576V
SHBD1841V

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Wyszukaj dokument COA

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Yingbin Ge et al.
The journal of physical chemistry. A, 114(6), 2384-2392 (2010-01-29)
The rate constants for the gas-phase reactions in the silicon carbide chemical vapor deposition of methyltrichlorosilane (Ge, Y. B.; Gordon, M. S.; Battaglia, F.; Fox, R. O. J. Phys. Chem. A 2007, 111, 1462.) were calculated. Transition state theory was
Ana Gisela Cunha et al.
Journal of colloid and interface science, 344(2), 588-595 (2010-02-05)
This work describes a very simple, rapid, and efficient approach to the hydrophobization and lipophobization of cellulose fibers through their reaction with gaseous trichloromethylsilane (TCMS). The characterization of the modified surface involved FTIR-ATR and solid-state (29)Si NMR spectroscopy, scanning electron
Yingbin Ge et al.
The journal of physical chemistry. A, 111(8), 1475-1486 (2007-02-06)
The kinetics for the previously proposed 114-reaction mechanism for the chemical vapor deposition (CVD) process that leads from methyltrichlorosilane (MTS) to silicon carbide (SiC) are examined. Among the 114 reactions, 41 are predicted to proceed with no intervening barrier. For
W H Mullen et al.
Clinica chimica acta; international journal of clinical chemistry, 157(2), 191-198 (1986-06-15)
An enzyme electrode is described based upon the enzyme lactate oxidase (EC 1.1.3.2) coupled to an H2O2 sensor. Use of an organosilane-treated microporous membrane over the enzyme layer, allows responses linear to 18 mmol/l L-lactate with response times of 1-3
Ildikó Szabó et al.
Biopolymers, 88(1), 20-28 (2006-10-26)
Rearrangement of disulfide bonds during the synthesis of alpha-conotoxin GI using PhS(O)Ph/CH(3)SiCl(3) oxidation procedure was observed. We have demonstrated that the protecting scheme (order of acetamidomethyl (Acm) and (t)Bu protecting groups) of the Cys residues as well as the reaction
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

Deposition Grade Silanes for Sol-Gel Processes

Deposition Grade Silanes, fully characterized by chemical analysis and nuclear magnetic resonance (NMR) with greater than 98% purity, for Sol-Gel Processes.

Sol-Gel Science for Ceramic Materials

Reactive silicone chemistry: Focus on pure silicon production, polymerizations, and controlled stereochemistry reactions.

Technologia zol-żel dla materiałów ceramicznych

Chemia reaktywnych silikonów: Koncentracja na produkcji czystego krzemu, polimeryzacji i kontrolowanych reakcjach stereochemicznych.

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

Zobacz wszystko

Questions

Reviews

No rating value

Active Filters

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej