Ugrás a tartalomra
Merck

654892

Sigma-Aldrich

Aldrich® Negative Photoresist Kit I

Bejelentkezésa Szervezeti és Szerződéses árazás megtekintéséhez


About This Item

UNSPSC kód:
12352300
NACRES:
NA.23

tárolási hőmérséklet

2-8°C

Minőségi szint

Általános leírás

Aldrich® Negative Photoresist Kit I consists of materials for photolithography. The photoresist can be spin coated on the glass substrate for the formation of electrode arrays. The kit also provides masking and patterning on the glass surface.

Alkalmazás

Aldrich® Negative Photoresist Kit I has been used in the fabrication of microelectrodes by photolithography. It can also be used to fabricate the droplet-based microfluidic device, microfluidic chips, glass optical waveguides, and integrated grating couplers.

Jogi információk

Aldrich is a registered trademark of Sigma-Aldrich Co. LLC

Kit Components Also Available Separately

Product No.
Leírás
Biztonsági adatlap

  • 651761Negative resist remover I 250 mLBiztonsági adatlap

  • 651788Negative resist developer I 250 mLBiztonsági adatlap

  • 651796Negative photoresist I 100 mLBiztonsági adatlap

  • 651974Negative resist thinner I 100 mLBiztonsági adatlap

Figyelmeztetés

Danger

Veszélyességi osztályok

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Repr. 1B - Skin Corr. 1 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

Célzott szervek

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

Tárolási osztály kódja

6.1C - Combustible acute toxic Cat.3 / toxic compounds or compounds which causing chronic effects

Lobbanási pont (F)

Not applicable

Lobbanási pont (C)

Not applicable


Válasszon a legfrissebb verziók közül:

Analitikai tanúsítványok (COA)

Lot/Batch Number

Sajnos jelenleg COA nem áll rendelkezésre ehhez a termékhez online.

Ha segítségre van szüksége, lépjen velünk kapcsolatba Vevőszolgálat

Már rendelkezik ezzel a termékkel?

Az Ön által nemrégiben megvásárolt termékekre vonatkozó dokumentumokat a Dokumentumtárban találja.

Dokumentumtár megtekintése

Az ügyfelek ezeket is megtekintették

High-speed droplet actuation on single-plate electrode arrays
Banerjee AN, et al.
Journal of Colloid and Interface Science, 362(2), 567-574 (2011)
Fabrication and characterization of optical waveguides and grating couplers
J P Sharpe, et al.
European Journal of Physics, 34, 1317-1317 (2013)
Jie-Bi Hu et al.
The Analyst, 140(5), 1495-1501 (2015-01-28)
Digital microfluidics (DMF) based on the electrowetting-on-dielectric phenomenon is a convenient way of handling microlitre-volume aliquots of solutions prior to analysis. Although it was shown to be compatible with on-line mass spectrometric detection, due to numerous technical obstacles, the implementation
Fabrication and characterization of optical waveguides and grating couplers
Sharpe JP, et al.
European Journal of Physics, 34(5), 1317-1317 (2013)
A compact 3D-printed interface for coupling open digital microchips with Venturi easy ambient sonic-spray ionization mass spectrometry
Hu J, et al.
Analyst, 140(5), 1495-1501 (2015)

Protocols

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Tudóscsoportunk valamennyi kutatási területen rendelkezik tapasztalattal, beleértve az élettudományt, az anyagtudományt, a kémiai szintézist, a kromatográfiát, az analitikát és még sok más területet.

Lépjen kapcsolatba a szaktanácsadással