Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Dokumenty

539279

Sigma-Aldrich

Octenyltrichlorosilane, mixture of isomers

96%

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(1)

About This Item

Wzór liniowy:
CH2=CH(CH2)6SiCl3
Numer CAS:
153447-97-3
Masa cząsteczkowa:
245.65
Numer MDL:
MFCD00039292
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
24878387
NACRES:
NA.23

Próba

96%

zanieczyszczenia

10-15% internal olefin isomers

współczynnik refrakcji

n20/D 1.458 (lit.)

tw

223-224 °C (lit.)

gęstość

1.07 g/mL at 25 °C (lit.)

ciąg SMILES

Cl[Si](Cl)(Cl)CCCCCCC=C

InChI

1S/C8H15Cl3Si/c1-2-3-4-5-6-7-8-12(9,10)11/h2H,1,3-8H2

Klucz InChI

MFISPHKHJHQREG-UHFFFAOYSA-N

Powiązane kategorie

Opis ogólny

Octenyltrichlorosilane, mixture of isomers (OTTS) is a derivative of trichlorosilane that forms a self-assembled monolayer (SAM) on a variety of substrates. It can be utilized in adhesion promotion and in the modification of surface characteristics.

Zastosowanie

OTTS forms a SAM on silica coated alumina implants which find potential application in orthopedics as a useful biomaterials.
This page may contain text that has been machine translated.

Piktogramy

Corrosion
GHS05

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H314

Klasyfikacja zagrożeń

Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B

Kod klasy składowania

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

201.0 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

93.9 °C - closed cup

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Synchrotron radiation stimulated etching of SiO2 thin films with a co contact mask for the area-selective deposition of self-assembled monolayer
Wang C and Urisu T
Japanese Journal of Applied Physics, 42(6S), 4016-4016 (2003)

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej