Przejdź do zawartości
Merck

463043

Sigma-Aldrich

Disilane

electronic grade

Synonim(y):

Disilicane, Disilicoethane, Disilicon hexahydride, Silicoethane, Silicon hydride (Si2 H6 )

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych


About This Item

Wzór liniowy:
Si2H6
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
62.22
Numer WE:
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
NACRES:
NA.23

klasa czystości

electronic grade

Próba

≥99.998% chemical purity basis

Postać

gas

zanieczyszczenia

≤50 ppm Higher silanes
<0.2 ppm Chlorosilanes
<1 ppm Argon (Ar) + Oxygen (O2)
<1 ppm Carbon dioxide (CO2)
<1 ppm Nitrogen (N2)
<1 ppm THC
<1 ppm Water
<5 ppm Siloxanes

tw

−14.5 °C (lit.)

mp

−132.6 °C (lit.)

temp. przejścia

critical temperature 150.9 °C

ciąg SMILES

[SiH3][SiH3]

InChI

1S/H6Si2/c1-2/h1-2H3

Klucz InChI

PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N

Opis ogólny

Atomic number of base material: 14 Silicon

Zastosowanie

Precursor for the rapid, low temperature deposition of epitaxial silicon and silicon-based dielectrics.

Cechy i korzyści

Disilane is used for the deposition of amorphous silicon, epitaxial silicon and silicon based dielectrics via rapid low-temperature chemical vapor depsition (LTCVD). Disilane is also used in the epitaxial growth of SiGe films by molecular beam epitaxy (MBE) in conjunction with solid sources of germanium. Precursor for the rapid, low temperature deposition of epitaxial silicon and silicon-based dielectrics.
This page may contain text that has been machine translated.

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

Klasyfikacja zagrożeń

Acute Tox. 4 Dermal - Eye Irrit. 2 - Flam. Gas 1B - Press. Gas Liquefied gas - Resp. Sens. 1 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

Organy docelowe

Respiratory system

Kod klasy składowania

2A - Gases

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

<50.0 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

< 10 °C - closed cup

Środki ochrony indywidualnej

Eyeshields, Faceshields, Gloves, multi-purpose combination respirator cartridge (US)


Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Journal of Applied Physiology, 81, 205-205 (1997)
Gen He et al.
Advanced science (Weinheim, Baden-Wurttemberg, Germany), 4(11), 1700158-1700158 (2017-12-05)
Establishing low-cost, high-throughput, simple, and accurate single nucleotide polymorphism (SNP) genotyping techniques is beneficial for understanding the intrinsic relationship between individual genetic variations and their biological functions on a genomic scale. Here, a straightforward and reliable single-molecule approach is demonstrated
O D Supekar et al.
Nanotechnology, 27(49), 49LT02-49LT02 (2016-11-12)
Focused ion beam (FIB) micromachining is a powerful tool for maskless lithography and in recent years FIB has been explored as a tool for strain engineering. Ion beam induced deformation can be utilized as a means for folding freestanding thin
Jorge Alamán et al.
Polymers, 11(3) (2019-04-10)
Accurate positioning of luminescent materials at the microscale is essential for the further development of diverse application fields including optoelectronics, energy, biotechnology and anti-counterfeiting. In this respect, inkjet printing has recently attracted great interest due to its ability to precisely
Jie Li et al.
ACS nano, 11(12), 12789-12795 (2017-12-08)
F

Produkty

Thin film photovoltaic devices have become increasingly important in efficiently harnessing solar energy to meet consumer demand.

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej