Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Kluczowe dokumenty

Wyświetl całą dokumentację

379212

Sigma-Aldrich

Hexamethyldisilazane

ReagentPlus®, 99.9%

Synonim(y):

1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane, HMDS

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(1)

About This Item

Wzór liniowy:
(CH3)3SiNHSi(CH3)3
Numer CAS:
999-97-3
Masa cząsteczkowa:
161.39
Beilstein:
635752
Numer WE:
213-668-5
Numer MDL:
MFCD00008259
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
24863226
NACRES:
NA.23

Poziom jakości

200

linia produktu

ReagentPlus®

Próba

99.9%

Formularz

liquid

współczynnik refrakcji

n20/D 1.407 (lit.)

bp

125 °C (lit.)

ciąg SMILES

C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C

InChI

1S/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3

Klucz InChI

FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N

Szukasz podobnych produktów? Odwiedź Przewodnik dotyczący porównywania produktów

Powiązane kategorie

Opis ogólny

Hexamethyldisilazane (HDMS) is an organoslicon compound. HDMS is a colorless liquid used as a reagent and precursor in organic synthesis and organometallic chemistry. It is also used as a sol-gel precursor to fabricate thin films for semiconductor devices.

Zastosowanie

Hexamethyldisilazane can be used:
  • As a precursor to fabricate multilayer quantum dot light-emitting diodes.
  • To modify dielectric surfaces of organic thin film transistors.
  • To fabricate superhydrophobic coatings on epoxy resins.
  • For the silylation of alcohols and phenols.

Informacje prawne

ReagentPlus is a registered trademark of Merck KGaA, Darmstadt, Germany
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.

Piktogramy

FlameSkull and crossbones
GHS02,GHS06

Hasło ostrzegawcze

Danger

Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia

H225,H302 + H332,H311,H412

Klasyfikacja zagrożeń

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 3 - Flam. Liq. 2

Kod klasy składowania

3 - Flammable liquids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

WGK 2

Temperatura zapłonu (°F)

52.5 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

11.4 °C - closed cup

Środki ochrony indywidualnej

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number
SHBM6136
SHBJ6186
SHBH7587
SHBG6192V
SHBF8354V

Nie widzisz odpowiedniej wersji?

Jeśli potrzebujesz konkretnej wersji, możesz wyszukać konkretny certyfikat według numeru partii lub serii.

Wyszukaj dokument COA

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Klienci oglądali również te produkty

Slide 1 of 3

1 of 3

Chlorotrimethylsilane ≥98.0% (GC)

Sigma-Aldrich

92361

Chlorotrimethylsilane

Osmium tetroxide solution suitable for electron microscopy, 4% in H2O

Sigma-Aldrich

75632

Osmium tetroxide solution

Chlorotrimethylsilane for GC derivatization, LiChropur™, ≥99.0% (GC)

Supelco

89595

Chlorotrimethylsilane

A simple and efficient room temperature silylation of diverse functional groups with hexamethyldisilazane using CeO2 nanoparticles as solid catalysts
Nagaraj Anbu, et al
Molecular Catalysis, 474, 110357-110357 (2019)
G Chiavari et al.
Journal of chromatography. A, 922(1-2), 235-241 (2001-08-07)
Alpha-amino acids were pyrolysed at 600 degrees C in the presence of hexamethyldisilazane (HMDS) and the formed volatile products were analysed on line by gas chromatography-mass spectrometry (GC-MS). Glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, norleucine, methionine, phenylalanine yielded principally the trimethylsilyl
D F Bray et al.
Microscopy research and technique, 26(6), 489-495 (1993-12-15)
Three different drying methods, critical-point drying (CPD), Peldri II, and hexamethyldisilazane (HMDS), were compared using representative animal (rat kidney, trachea, duodenum, lung, and red blood cells) and plant (leaves from ten species of monocotyledons and dicotyledons) specimens. All three drying
Ar/HMDS Plasma Jet as a Tool for Superhydrophobic Coatings on Epoxy Resin
Jingang Wang, et al.
Nanotechnology, IEEE Transactions, 50, 1867-1874 (2022)
Hexamethyldisilazane-mediated full-solution-processed inverted quantum dot-light-emitting diodes
Yan Fu, et al.
Journal of Materials Chemistry, 5, 522-526 (2017)
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

Progress in Spintronic Materials

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes

Hybrid organic-inorganic sol-gel materials containing silica were first called “ORMOSILs” in 1984.

Nanowire Synthesis: From Top-Down to Bottom-Up

The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej