Wszystkie zdjęcia(1)
Kluczowe dokumenty
328928
2-Nitro-4-(trifluoromethyl)benzenethiol
98%
Synonim(y):
2-Nitro-4-(trifluoromethyl)thiophenol
Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
About This Item
Wzór liniowy:
O2NC6H3(CF3)SH
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
223.17
Numer WE:
Numer MDL:
Kod UNSPSC:
12352100
Identyfikator substancji w PubChem:
Polecane produkty
Próba
98%
tw
105 °C/1 mmHg (lit.)
mp
160-162 °C (lit.)
ciąg SMILES
[O-][N+](=O)c1cc(ccc1S)C(F)(F)F
Zastosowanie
2-Nitro-4-(trifluoromethyl)benzenethiol was employed as reagent in Ugi-Smiles coupling reaction of o-nitrothiophenol. It was also used in synthesis of monolayer-capped nanoparticles (MCNPs) consisting of 3-5nm Au nanoparticles.
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.
Hasło ostrzegawcze
Warning
Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia
Zwroty wskazujące środki ostrożności
Klasyfikacja zagrożeń
Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3
Organy docelowe
Respiratory system
Kod klasy składowania
13 - Non Combustible Solids
Klasa zagrożenia wodnego (WGK)
WGK 3
Temperatura zapłonu (°F)
Not applicable
Temperatura zapłonu (°C)
Not applicable
Środki ochrony indywidualnej
dust mask type N95 (US), Eyeshields, Gloves
Wybierz jedną z najnowszych wersji:
Masz już ten produkt?
Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.
Gady Konvalina et al.
ACS applied materials & interfaces, 4(1), 317-325 (2011-11-30)
Chemiresistors based on metal monolayer-capped nanoparticles (MCNPs) are promising candidates for fast, inexpensive, and portable tracing of (bio)chemical species in the gas phase. However, the sensitivity of such sensors to humidity is problematic, limiting their reliable and reproducible application in
Thiols in Ugi-and Passerini-Smiles-Type Couplings.
Barthelon A, et al.
European Journal of Organic Chemistry, 2008(35), 5974-5987 (2008)
Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.
Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej