651788
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Sigma-Aldrich
654892
Aldrich® 负性光致抗蚀剂套装 I
651796
负性光致抗蚀剂 I
651761
负性光致抗蚀剂去除剂 I
651818
金蚀刻剂，标准
Supelco
PHR1046
乙二醇
484431
丙二醇单甲醚乙酸酯
TR-1003
聚乙烯感染/转染试剂
324558
182702
聚偏二氟乙烯
651826
铬蚀刻剂
100
129-138 °C (lit.)
0.89 g/mL at 25 °C (lit.)
2-8°C
Danger
Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3
Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system
3 - Flammable liquids
WGK 2
78.8 °F - closed cup
26 °C - closed cup
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
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Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
光阻套件為光刻製程提供預先稱重的化學成分，並針對不同的基板選擇提供獨立的蝕刻劑。
The technical bulletin for negative photoresist procedures indicates that the developer corresponding to this product is suitable for use with the SU8-2 type of photoresist.https://www.sigmaaldrich.com/deepweb/assets/sigmaaldrich/product/documents/345/019/al_techbull_al217.pdf
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我們的科學家團隊在所有研究領域都有豐富的經驗，包括生命科學、材料科學、化學合成、色譜、分析等.
