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儲存期限
1 yr (cool area away from direct sunlight)
pH值
<2 (20 °C)
bp
204-304 °C (lit.)
密度
1.00 g/mL at 25 °C (lit.)
儲存溫度
2-8°C
一般說明
低 pH 值配方，用于去除固化到各种基底上的光致抗蚀剂。不腐蚀金属和氧化物。不含氯化烃、铬酸盐、酚或磷酸盐。在室温和高温下均性能良好。
作为负性光致抗蚀剂套装 654892 的一部分提供
訊號詞
Danger
危險分類
Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1
儲存類別代碼
8A - Combustible corrosive hazardous materials
水污染物質分類（WGK）
WGK 3
閃點（°F）
204.8 °F
閃點（°C）
96 °C
分析證明 (COA)
輸入產品批次/批號來搜索 分析證明 (COA)。在產品’s標籤上找到批次和批號，寫有 ‘Lot’或‘Batch’.。
條款
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
光阻套件為光刻製程提供預先稱重的化學成分，並針對不同的基板選擇提供獨立的蝕刻劑。
我們的科學家團隊在所有研究領域都有豐富的經驗，包括生命科學、材料科學、化學合成、色譜、分析等.
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