液相・気相成長用前駆体

液相成長用前駆体

多様な液相成長用前駆体をご用意しています。55種類の金属に対して、酢酸塩、アセチルアセトナート、tert-ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、エトキシド、トリ-sec-ブトキシド、メトキシド、2-エチルヘキサノエートなどをはじめとする化合物をご提供しています。これら製品は、90%～99.999%のさまざまな純度、溶媒、濃度で販売されています。

気相成長法（CVD、ALD）用前駆体

CVD（chemical vapor deposition）やALD（atomic layer deposition）用の高品質の揮発性有機金属前駆体を提供しています。これら前駆体製品には、利便性と安全性を考慮して、さまざまな蒸着システムで使用可能なスチールシリンダーにて提供されているものもあります。

物理気相成長用前駆体

物理気相成長（または物理蒸着、PVD：physical vapor deposition）は、固相原料から高温真空またはガスプラズマ（スパッタリング）によって材料を気化した物質を利用して、基板上で凝縮することにより薄膜を生成させる方法です。高純度のスパッタリングターゲット、ペレット、金属箔、蒸発スラグを提供しており、マイクロエレクトロニクスデバイス、燃料電池電極、拡散障壁、光学コーティングなどの多様な用途に用いられています。