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Merck

490407

Sigma-Aldrich

クロロペンタンメチルジシラン

97%

別名:

1-Chloro-1,1,2,2,2-pentamethyldisilane, Chlorodimethyl(trimethylsilyl)silane, Chloropentamethyldisilane, Pentamethylchlorodisilane

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About This Item

化学式:
(CH3)3SiSi(CH3)2Cl
CAS番号:
分子量:
166.80
EC Number:
MDL番号:
UNSPSCコード:
12352300
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

アッセイ

97%

フォーム

liquid

屈折率

n20/D 1.4415 (lit.)

bp

134-136 °C (lit.)

密度

0.862 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES記法

C[Si](C)(C)[Si](C)(C)Cl

InChI

1S/C5H15ClSi2/c1-7(2,3)8(4,5)6/h1-5H3

InChI Key

GJCAUTWJWBFMFU-UHFFFAOYSA-N

アプリケーション

Chloropentamethyldisilane may be used as one of the constituents for the sythesis of silyloxyjulolidine (SiN1) as a source of silyl radicals which may be used as photoinitiators for free radical photopolymerization.[1] It may also be used in the preparation of 2-pentamethyldisilanyloxymethyl)phenylpentamethyldisilane.[2]

ピクトグラム

FlameCorrosion

シグナルワード

Danger

危険有害性情報

危険有害性の分類

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

補足的ハザード

保管分類コード

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 3

引火点(°F)

102.2 °F - closed cup

引火点(℃)

39 °C - closed cup

個人用保護具 (PPE)

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


適用法令

試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。

消防法

第3類:自然発火性物質及び禁水性物質
塩素化けい素化合物
危険等級I
第一種自然発火性物質及び禁水性物質

Jan Code

490407-1G:
490407-BULK:
490407-VAR:
490407-5G:


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試験成績書(COA)

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Silyloxyamines as sources of silyl radicals: ESR spin-trapping, laser flash photolysis investigation, and photopolymerization ability.
Versace DL, et al.
Journal of Physical Organic Chemistry, 24(4), 342-350 (2011)
Photoinduced Rearrangement Reaction of 2-(Pentamethyldisilanyloxymethyl) phenylpentamethyldisilane.
Park SK and Gong SY
Bull. Korean Chem. Soc., 31(3), 731-734 (2010)
Silyloxyamines as sources of silyl radicals: ESR spin-trapping, laser flash photolysis investigation, and photopolymerization ability.
Versace DL, et al.
Journal of Physical Organic Chemistry, 24(4), 342-350 (2011)

資料

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

半導体デバイス作製に非常に重要な材料である窒化シリコン(SiNx)のALD用前駆体化合物について解説いただきました。

Hybrid organic-inorganic sol-gel materials containing silica were first called “ORMOSILs” in 1984.

一置換および二置換アルコキシシロキサンから合成された融解ゲルは、生物医学、電子工学、光電子工学などへの応用が期待されています。

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