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725471
Bis(methyl-η5−cyclopentadienyl)methoxymethylzirconium
packaged for use in deposition systems
Sinonimo/i:
ZRCMMM, ZrD-CO4
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About This Item
Formula condensata:
Zr(CH3C5H4)2CH3OCH3
Peso molecolare:
295.53
Numero MDL:
Codice UNSPSC:
12352103
ID PubChem:
NACRES:
NA.23
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Stato
liquid
Impiego in reazioni chimiche
core: zirconium
Colore
colorless
P. ebollizione
110 °C/0.5 mmHg (lit.)
Densità
1.27 g/mL±0.01 g/mL at 25 °C (lit.)
Stringa SMILE
C[C]1[C][C][C][C]1.C[C]2[C][C][C][C]2.C[Zr]OC
InChI
1S/2C6H7.CH3O.CH3.Zr/c2*1-6-4-2-3-5-6;1-2;;/h2*2-5H,1H3;1H3;1H3;/q;;-1;;+1
LFGIFPGCOXPKMG-UHFFFAOYSA-N
Categorie correlate
Descrizione generale
Atomic number of base material: 40 Zirconium
Applicazioni
Advanced precursor for atomic layer deposition of ZrO2 thin films. Hafnium and zirconium oxides are leading candidates to replace silicion dioxide as the gate oxide in a variety of semiconductor and energy applications.[1] Excellent properties of HfO2 and ZrO2 films make them especially attractive for gate oxide replacement and as potential insulating dielectrics for capacitive elements in memory devices such as DRAM.[2]
Caratteristiche e vantaggi
Compatible with a variety of oxidants in ALD growth processes across a wide temperature range exhibiting self limiting growth up to 400 °C. Precursor volatility and thermal stability properties enable easy materials transport from bubblers into conventional deposition tools.
Confezionamento
Packaged in stainless steel cylinders compatible with conventional deposition systems. Precursors may be used in liquid injection systems as dilute solutions and in combination with a variety of other sources to deposit mixed oxides.
Avvertenze
Warning
Indicazioni di pericolo
Consigli di prudenza
Classi di pericolo
Acute Tox. 4 Oral - Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2
Codice della classe di stoccaggio
10 - Combustible liquids not in Storage Class 3
Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)
WGK 3
Punto d’infiammabilità (°F)
226.4 °F
Punto d’infiammabilità (°C)
108 °C
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