440191
Hexamethyldisilazan
reagent grade, ≥99%
Synonym(e):
HMDS
About This Item
Empfohlene Produkte
Qualität
reagent grade
Assay
≥99%
Form
liquid
Brechungsindex
n20/D 1.407 (lit.)
bp
125 °C (lit.)
SMILES String
C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C
InChI
1S/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3
InChIKey
FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N
Suchen Sie nach ähnlichen Produkten? Aufrufen Leitfaden zum Produktvergleich
Verwandte Kategorien
Allgemeine Beschreibung
Anwendung
- As a silylating agent in the trimethylsilylation of alcohols under nearly neutral reaction conditions.
- To control the molecular weights of polypeptides during ring-opening polymerization of α-amino acid N-carboxyanhydrides.
- To fabricate silicon carbonitride thin films by plasma-enhanced CVD.
- For specimen preparation for scanning electron microscopy and the preparation of trimethylsilyl ethers from hydroxy compounds.
Leistungsmerkmale und Vorteile
- High chemicalstability and low molecular weight
- Nontoxic andcost-effective reagent
- Ammonia is theonly byproduct generated during silylation
- Silylationreaction using HDMS is nearly neutral and does not need any precaution
Signalwort
Danger
H-Sätze
Gefahreneinstufungen
Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 3 - Flam. Liq. 2
Lagerklassenschlüssel
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 2
Flammpunkt (°F)
52.5 °F - closed cup
Flammpunkt (°C)
11.4 °C - closed cup
Persönliche Schutzausrüstung
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
Analysenzertifikate (COA)
Suchen Sie nach Analysenzertifikate (COA), indem Sie die Lot-/Chargennummer des Produkts eingeben. Lot- und Chargennummern sind auf dem Produktetikett hinter den Wörtern ‘Lot’ oder ‘Batch’ (Lot oder Charge) zu finden.
Besitzen Sie dieses Produkt bereits?
In der Dokumentenbibliothek finden Sie die Dokumentation zu den Produkten, die Sie kürzlich erworben haben.
Kunden haben sich ebenfalls angesehen
with hexamethyldisilazane (HMDS) catalysed by in situ generated I2
using OxoneR /KI or cerium ammonium nitrate (CAN)/KI systems
under mild conditions
Artikel
atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer
Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.
Synthesis of Melting Gels Using Mono-Substituted and Di-Substituted Alkoxysiloxanes
The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.
Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..
Setzen Sie sich mit dem technischen Dienst in Verbindung.