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Merck
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901481

Sigma-Aldrich

Hexamethyldisilazane

10% solution in xylene

Sinônimo(s):

HMDS

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About This Item

Fórmula linear:
C6H19NSi2
Número CAS:
Código UNSPSC:
12352103
NACRES:
NA.23

forma

liquid

InChI

1S/C6H19NSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h7H,1-6H3

chave InChI

FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N

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Descrição geral

The product is used to augment the adhesion of photoresist on silicon and SiO2 surfaces.
The effectiveness of HMDS on adhesion is correlated with the reactivity of this compound with surface hydroxyl groups to form a new siloxane end product, i.e. Si-O-Si(CH3)3. This newly formed termination on the substrate renders the surface more hydrophobic in character and leads to greater wettability by photoresist. The latter condition is a crucial factor in good bonding. As a result of these altered characteristics due to the surface chemistry, the treated silicon surfaces become highly compatible with both negative and positive photoresists.

Aplicação

HMDS preparations are generally applied to the silicon wafer while spinning, prior to the application of photoresist. As an alternative procedure, the wafers may be immersed in HMDS preparations and allowed to dry after removal.

Características e benefícios

  • Ready-to-use preparations for surface treatment of silicon.
  • Promotes photoresist adhesion on silicon and SiO2 films.
  • Prevents lift-off at edges of photoresist and reduces undercutting.
  • Ensures full-line resolution.
  • Improves yields of MOS and integrated silicon devices.

Palavra indicadora

Danger

Classificações de perigo

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 - STOT SE 3

Órgãos-alvo

hearing organs, Respiratory system

Código de classe de armazenamento

3 - Flammable liquids

Classe de risco de água (WGK)

WGK 2

Ponto de fulgor (°F)

77.0 °F

Ponto de fulgor (°C)

25 °C


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