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901623

Sigma-Aldrich

含有表面活性剂的缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)6:1

同義詞:

BHF, 缓冲HF

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About This Item

分類程式碼代碼:
12161700
NACRES:
NA.23
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一般說明

缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的湿蚀刻剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)薄膜。它是一种缓冲剂的混合物,例如氟化铵(NH4F)和氢氟酸(HF)。浓缩HF对二氧化硅的蚀刻速度太快,无法实现良好的工艺控制,并且还会剥离用于光刻图案化的光刻胶。

應用

含表面活性剂的缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)6:1可用于去除基于AlGaN/GaN 高电子迁移率晶体管的氧化物,用于栅极光刻。[1][2]也可用于缓冲氧化物蚀刻剂方法,制造微生物芯片。[3]

象形圖

Skull and crossbonesCorrosion

訊號詞

Danger

危險分類

Acute Tox. 1 Dermal - Acute Tox. 2 Inhalation - Acute Tox. 2 Oral - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1A

儲存類別代碼

6.1B - Non-combustible acute toxic Cat. 1 and 2 / very toxic hazardous materials

水污染物質分類(WGK)

WGK 2

閃點(°F)

Not applicable

閃點(°C)

Not applicable


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Effect of passivation on AlGaN/GaN HEMT device performance
2000 IEEE international symposium on compound semiconductors, 357-363 (2000)
Surface cleaning and preparation in AlGaN/GaN-based HEMT processing as assessed by X-ray photoelectron spectroscopy
Gonzalez-Posada F, et al.
Applied Surface Science, 253(14), 6185-6190 (2007)
Fabrication of a new micro bio chip and flow cell cytometry system using Bio-MEMS technology
Byun I, et al.
Microelectronics Journal, 39(5), 717-722 (2008)

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