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Merck
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651788

Sigma-Aldrich

Negative resist developer I

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250 ML
₩62,626

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출고 가능일2025년 4월 21일세부사항

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250 ML
₩62,626

About This Item

UNSPSC 코드:
12352300
NACRES:
NA.23

₩62,626

출고 가능일2025년 4월 21일세부사항

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Quality Level

100

bp

129-138 °C (lit.)

density

0.89 g/mL at 25 °C (lit.)

저장 온도

2-8°C

관련 카테고리

일반 설명

Available as part of Negative Photoresist kit 654892

픽토그램

FlameHealth hazardExclamation mark
GHS02,GHS08,GHS07

신호어

Danger

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3

표적 기관

Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system

Storage Class Code

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 2

Flash Point (°F)

78.8 °F - closed cup

Flash Point (°C)

26 °C - closed cup

개인 보호 장비

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

가장 최신 버전 중 하나를 선택하세요:

시험 성적서(COA)

Lot/Batch Number
MKCR3314
MKCM9003
MKCM0934
MKCL8147
MKCH5861

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프로토콜

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

질문

  1. Can I use this developer with the photoresist SU8-2?

    1 답변

    1. The technical bulletin for negative photoresist procedures indicates that the developer corresponding to this product is suitable for use with the SU8-2 type of photoresist.
      https://www.sigmaaldrich.com/deepweb/assets/sigmaaldrich/product/documents/345/019/al_techbull_al217.pdf

      도움이 되었습니까?

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