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蒸気圧
3.8 mmHg ( 25 °C)
mp
129 °C (lit.)
密度
4.32 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES記法
F[Xe]F
InChI
1S/F2Xe/c1-3-2
InChI Key
IGELFKKMDLGCJO-UHFFFAOYSA-N
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アプリケーション
非常に有用なフッ素化試薬です。
シグナルワード
Danger
危険有害性情報
危険有害性の分類
Acute Tox. 1 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral - Eye Dam. 1 - Ox. Sol. 2 - Skin Corr. 1B
保管分類コード
5.1B - Oxidizing hazardous materials
WGK
WGK 3
引火点(°F)
Not applicable
引火点(℃)
Not applicable
個人用保護具 (PPE)
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
適用法令
試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。
労働安全衛生法名称等を表示すべき危険物及び有害物
名称等を表示すべき危険物及び有害物
労働安全衛生法名称等を通知すべき危険物及び有害物
名称等を通知すべき危険物及び有害物
Jan Code
318272-VAR:
318272-BULK:
318272-5G:
318272-1G:
Fluorination with XeF(2).(1) 44. Effect of Geometry and Heteroatom on the Regioselectivity of Fluorine Introduction into an Aromatic Ring.
The Journal of organic chemistry, 63(3), 878-880 (2001-10-24)
Nature chemistry, 2(9), 784-788 (2010-08-24)
The application of pressure, internal or external, transforms molecular solids into extended solids with more itinerant electrons to soften repulsive interatomic interactions in a tight space. Examples include insulator-to-metal transitions in O(2), Xe and I(2), as well as molecular-to-non-molecular transitions
Inorganic chemistry, 47(1), 5-7 (2007-12-07)
Palladium(II) aryliodo complexes bearing chelating diphosphine ligands react with XeF2, giving iodoarene and rare palladium(II) difluoro complexes. The reaction is general with regard to the aryl group, with even C6F5-I undergoing facile reductive elimination from a Pd center.
Spectrochimica acta. Part A, Molecular and biomolecular spectroscopy, 56A(8), 1589-1611 (2000-07-25)
Raman spectra of XeF4 and XeF6 in the nonaqueous HF solutions at various concentrations and vibrational spectra of the [XeF5]+ cation in the solid state and in the HF solutions over a wide range of vibrational frequencies have been studied.
Journal of synchrotron radiation, 17(1), 69-74 (2009-12-24)
The synchrotron radiation (SR) stimulated etching of silicon elastomer polydimethylsiloxane (PDMS) using XeF(2) as an etching gas has been demonstrated. An etching system with differential pumps and two parabolic focusing mirrors was constructed to perform the etching. The PDMS was
ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.
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