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质量水平
表单
liquid
折射率
n20/D 1.498 (lit.)
沸点
117 °C (lit.)
mp
−28 °C (lit.)
密度
1.205 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES字符串
CC[Zn]CC
InChI
1S/2C2H5.Zn/c2*1-2;/h2*1H2,2H3;
InChI key
HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N
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一般描述
应用
警示用语:
Danger
危险分类
Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
补充剂危害
储存分类代码
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
WGK
WGK 3
闪点(°F)
Not applicable
闪点(°C)
Not applicable
个人防护装备
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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商品
近十年来出现了原子层沉积(ALD)技术以满足各种需求,包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
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Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.
我们的科学家团队拥有各种研究领域经验,包括生命科学、材料科学、化学合成、色谱、分析及许多其他领域.
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