Přejít k obsahu
Merck

87921

Tetramethylsilane

≥99.0% (GC)

Synonyma:

TMS

Přihlásit pro zobrazení organizačních a smluvních cen.

Vybrat velikost

Změnit zobrazení

O této položce

Lineární vzorec:
Si(CH3)4
Číslo CAS:
Molekulová hmotnost:
88.22
UNSPSC Code:
12352103
NACRES:
NA.22
PubChem Substance ID:
EC Number:
200-899-1
Beilstein/REAXYS Number:
1696908
MDL number:
Assay:
≥99.0% (GC)
Technique(s):
GC/GC: suitable
Bp:
26-28 °C (lit.)
Vapor pressure:
11.66 psi ( 20 °C)
Technický servis
Potřebujete pomoc? Náš tým zkušených odborníků je vám k dispozici.
Dovolte nám, abychom vám pomohli


vapor pressure

11.66 psi ( 20 °C)

Quality Segment

assay

≥99.0% (GC)

form

liquid

autoignition temp.

842 °F

technique(s)

GC/GC: suitable

refractive index

n20/D 1.358 (lit.), n20/D 1.359

bp

26-28 °C (lit.)

mp

−99 °C (lit.)

density

0.648 g/mL at 25 °C (lit.)

functional group

silyl

storage temp.

2-8°C

SMILES string

C[Si](C)(C)C

InChI

1S/C4H12Si/c1-5(2,3)4/h1-4H3

InChI key

CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N

Application

Tetramethylsilane can be used as a silicon precursor for the synthesis of silicon doped diamond-like carbon (DLC-Si) films and silicon carbide (SiC) bulk crystals. It can also be used as a hydrocarbon substrate to study intermolecular C-H activation chemistry.


Still not finding the right product?

Explore all of our products under Tetramethylsilane


Piktogramy

Flame

Výstražné slovo

Danger

Kódy nebezpečí

Hazard Classifications

Flam. Liq. 1

Skladovací třída

3 - Flammable liquids

Co se děje?

WGK 3

Bod vzplanutí (°F)

-16.6 °F - closed cup

Bod vzplanutí (°C)

-27 °C - closed cup

PPE (osobní ochranné prostředky)

Eyeshields, Faceshields, Gloves



Vyberte jednu z posledních verzí:

Osvědčení o analýze (COA)

Lot/Batch Number

Nevidíte správnou verzi?

Potřebujete-li konkrétní verzi, můžete vyhledat daný certifikát podle čísla dávky nebo čísla šarže.

Již tento produkt vlastníte?

Dokumenty související s produkty, které jste v minulosti zakoupili, byly za účelem usnadnění shromážděny ve vaší Knihovně dokumentů.

Navštívit knihovnu dokumentů