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Merck
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38385

Sigma-Aldrich

Dichlor-diisopropylsilan

≥97.0% (GC)

Synonym(e):

Diisopropyl-dichlorsilan

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About This Item

Empirische Formel (Hill-System):
C6H14Cl2Si
CAS-Nummer:
7751-38-4
Molekulargewicht:
185.17
Beilstein:
1736244
MDL-Nummer:
MFCD00054895
UNSPSC-Code:
12352001
PubChem Substanz-ID:
329755681
NACRES:
NA.22

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Qualitätsniveau

100

Assay

≥97.0% (GC)

Form

liquid

Brechungsindex

n20/D 1.444

bp

66 °C/27 mmHg (lit.)

Dichte

1.026 g/mL at 20 °C (lit.)

SMILES String

CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C

InChI

1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3

InChIKey

GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N

Verwandte Kategorien

Sonstige Hinweise

Protecting group reagent; brings two alcohols in close contact for "tethering technique"[1][2]

Piktogramme

FlameCorrosion
GHS02,GHS05

Signalwort

Danger

H-Sätze

H226,H314

Gefahreneinstufungen

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

Lagerklassenschlüssel

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 3

Flammpunkt (°F)

109.4 °F - closed cup

Flammpunkt (°C)

43 °C - closed cup

Persönliche Schutzausrüstung

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

Hier finden Sie alle aktuellen Versionen:

Analysenzertifikate (COA)

Lot/Batch Number
BCCK7988
BCCG9171
BCBW2351
BCBQ1629V
BCBJ8558V

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C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
J.H. Hutchinson et al.
Tetrahedron Letters, 32, 573-573 (1991)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

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