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668729
Diethylzinc
packaged for use in deposition systems
Sinônimo(s):
DEZn, Et2Zn, DEZ, Zincdiethyl
About This Item
Produtos recomendados
Nível de qualidade
Formulário
liquid
índice de refração
n20/D 1.498 (lit.)
p.e.
117 °C (lit.)
pf
−28 °C (lit.)
densidade
1.205 g/mL at 25 °C (lit.)
cadeia de caracteres SMILES
CC[Zn]CC
InChI
1S/2C2H5.Zn/c2*1-2;/h2*1H2,2H3;
chave InChI
HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N
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Descrição geral
Aplicação
Palavra indicadora
Danger
Frases de perigo
Declarações de precaução
Classificações de perigo
Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Eye Dam. 1 - Pyr. Liq. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 1
Perigos de suplementos
Código de classe de armazenamento
4.2 - Pyrophoric and self-heating hazardous materials
Classe de risco de água (WGK)
WGK 3
Ponto de fulgor (°F)
Not applicable
Ponto de fulgor (°C)
Not applicable
Equipamento de proteção individual
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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Artigos
Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.
Atomic Layer Deposition (ALD) technology ensures uniform coating on complex 3D surfaces with precise chemisorption cycles.
Continuous efficiency improvements in photovoltaic devices result from material advancements and manufacturing innovation.
The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.
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