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二乙氧基甲基[(3-环氧乙烷基甲氧)丙基]硅烷

97%

• 同義詞: (3-环氧丙氧基丙基)甲基二乙氧基硅烷, 3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷
• 經驗公式（希爾表示法）: C₁₁H₂₄O₄Si
• CAS號碼: 2897-60-1
• 分子量：: 248.39
• Beilstein: 121965
• EC號碼: 220-780-8
• MDL號碼: MFCD00046995
• 分類程式碼代碼: 12352103
• PubChem物質ID: 24867224
• NACRES: NA.23

屬性

• 化驗: 97%
• 形狀: liquid
• 折射率: n20/D 1.431 (lit.)
• bp: 122-126 °C/5 mmHg (lit.)
• 密度: 0.978 g/mL at 25 °C (lit.)
• SMILES 字串: CCO[Si](C)(CCCOCC1CO1)OCC
• InChI: 1S/C11H24O4Si/c1-4-14-16(3,15-5-2)8-6-7-12-9-11-10-13-11/h11H,4-10H2,1-3H3
• InChI 密鑰: OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N

描述

一般說明

二乙氧基（3-缩水甘油基氧基丙基）甲基硅烷（GPMS）是一种环氧硅烷，可在多种材料的表面处理中用作硅烷偶联剂。这些硅烷还可通过改变基质和弹性材料的表面性质而用作粘附促进剂。[1][2]

應用

GPMS可用于纤维素纳米晶体、二氧化硅纳米材料及多种其他基于硅胶基质颗粒的表面改性。它可通过将环氧硅烷基团与表面分子相连接而对这些表面进行官能化。[3][4][5]

涂有二乙氧基(3-环氧丙基氧基丙基)甲基硅烷的盖玻片被用作样品固定器，用于静电固定颗粒，以便进行光学显微镜检查。{52}它可用于将环氧基引入Fe₃O₄SiO₂纳米颗粒中。 {53}二乙氧基(3-环氧丙基氧基丙基)甲基硅烷的自组装单层（SAM）可以在硅片的氧化层上形成，使其具有硅氧烷功能。{54}

安全資訊

• 象形圖: GHS07
• 訊號詞: Warning
• 危險聲明: H315,H319,H335
• 防範說明: P261 - P264 - P271 - P280 - P302 + P352 - P305 + P351 + P338
• 危險分類: Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3
• 標靶器官: Respiratory system
• 儲存類別代碼: 10 - Combustible liquids
• 水污染物質分類（WGK）: WGK 3
• 閃點（°F）: 251.6 °F - closed cup
• 閃點（°C）: 122 °C - closed cup
• 個人防護裝備: Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter