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文件

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Sigma-Aldrich

双(环戊二烯)钴(II)

同義詞:

Cobaltocene

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About This Item

線性公式:
Co(C5H5)2
CAS號碼:
1277-43-6
分子量：:
189.12
EC號碼:
215-061-0
MDL號碼:
MFCD00013749
分類程式碼代碼:
12352103
PubChem物質ID:
24860617
NACRES:
NA.23

形狀

powder or crystals
solid

反應適用性

core: cobalt

mp

176-180 °C (dec.) (lit.)

儲存溫度

2-8°C

SMILES 字串

[Co].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]2[CH][CH][CH][CH]2

InChI

1S/2C5H5.Co/c2*1-2-4-5-3-1;/h2*1-5H;

InChI 密鑰

PXFGMRZPRDJDEK-UHFFFAOYSA-N

相關類別

一般說明

双(环戊二烯基)钴(II)也称为二茂钴，是一种有机金属化合物，广泛应用于聚合物合成、钴纳米材料和氧化还原液流电池领域。

應用

双(环戊二烯基)钴(II)可用于：
  • 作为掺杂剂制备 具有高热电转换效率的封装碳纳米管。
  • 作为 CVD 前驱体，用于制造 用于各种应用的氧化钴薄膜。
  • 作为锂基氧化还原液流电池中的氧化还原活性阳极物质， 以实现更高的能量密度和能源效率。
  • 作为甲基丙烯酸甲酯受控/“活性”自由基聚合的催化剂。

象形圖

FlameHealth hazard
GHS02,GHS08

訊號詞

Danger

危險分類

Carc. 2 - Flam. Sol. 2 - Muta. 2 - Resp. Sens. 1 - Skin Sens. 1

儲存類別代碼

4.1B - Flammable solid hazardous materials

水污染物質分類（WGK）

WGK 3

個人防護裝備

Eyeshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

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A high-performance all-metallocene-based, non-aqueous redox flow battery
Yu Ding, et al.
Energy & Environmental Science, 10, 491-497 (2017)
F Li et al.
Chemical science, 9(30), 6379-6389 (2018-10-13)
A series of NO-bound, iron-functionalized polyoxovanadate-alkoxide (FePOV-alkoxide) clusters have been synthesized, providing insight into the role of multimetallic constructs in the coordination and activation of a substrate. Upon exposure of the heterometallic cluster to NO, the vanadium-oxide metalloligand is oxidized
Development of n-type cobaltocene-encapsulated carbon nanotubes with remarkable thermoelectric property
Takahiro Fukumaru, et al.
Scientific Reports, 5, 7951-7951 (2015)
Jacob M Clary et al.
Nanotechnology, 31(17), 175703-175703 (2020-01-09)
Highly dispersed cobalt atoms were deposited on porous alumina particles using atomic layer deposition (ALD) with a CoCp2/H2 chemistry at approximately 7 wt%. H2 did not completely reduce the cyclopentadienyl organic ligands bound to deposited Co atoms at ALD reaction
Thin films of cobalt oxide deposited on high aspect ratio supports by atomic layer deposition
Madeleine Diskus, et al
Chem. Vap. Deposition, 17, 135-140 (2011)
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