Przejdź do zawartości
Merck
Wszystkie zdjęcia(1)

Dokumenty

767514

Sigma-Aldrich

Tantalum

sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.95% trace metals basis

Synonim(y):

Ta

Zaloguj sięWyświetlanie cen organizacyjnych i kontraktowych
Wszystkie zdjęcia(1)

About This Item

Wzór empiryczny (zapis Hilla):
Ta
Numer CAS:
7440-25-7
Masa cząsteczkowa:
180.95
Numer WE:
231-135-5
Numer MDL:
MFCD00011252
Kod UNSPSC:
12352103
Identyfikator substancji w PubChem:
329767321
NACRES:
NA.23

ciśnienie pary

<0.01 mmHg ( 537.2 °C)

Próba

99.95% trace metals basis

Postać

foil

temp. samozapłonu

572 °F

przydatność reakcji

core: tantalum

rezystywność

13.5 μΩ-cm, 20°C

śr. × grubość

2.00 in. × 0.25 in.

tw

5425 °C (lit.)

mp

2996 °C (lit.)

gęstość

16.69 g/cm3 (lit.)

ciąg SMILES

[Ta]

InChI

1S/Ta

Klucz InChI

GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N

Zastosowanie

Sputtering is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic particles. The extreme miniaturization of components in the semiconductor and electronics industry requires high purity sputtering targets for thin film deposition.
This page may contain text that has been machine translated.

Kod klasy składowania

11 - Combustible Solids

Klasa zagrożenia wodnego (WGK)

nwg

Temperatura zapłonu (°F)

Not applicable

Temperatura zapłonu (°C)

Not applicable

Certyfikaty analizy (CoA)

Poszukaj Certyfikaty analizy (CoA), wpisując numer partii/serii produktów. Numery serii i partii można znaleźć na etykiecie produktu po słowach „seria” lub „partia”.

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów

Kostantinidis; S.;
The European Physical Journal - Applied Physics, 56(2), 24002/1-24002/1 (2011)
Helmersson; U.;
Thin Solid Films, 513(1-2), 1-1 (2006)
Nilesh Patil et al.
Journal of biomedical materials research. Part B, Applied biomaterials, 89(1), 242-251 (2008-10-08)
Conventional porous-coated joint prostheses used in hip and knee reconstruction have demonstrated good clinical results, however, these implants possess some inherent shortcomings such as low volumetric porosity, suboptimal frictional characteristics, and higher modulus of elasticity relative to that of bone.
Robert Cohen
American journal of orthopedics (Belle Mead, N.J.), 31(4), 216-217 (2002-05-15)
Conventional materials used for orthopedic reconstruction implants limit the design of new and improved implants. Solid metal is rigid. Porous fixation surfaces have low volumetric porosity available for biologic ingrowth and low frictional characteristics for initial implant stability and have
Brett Levine et al.
The journal of knee surgery, 20(3), 185-194 (2007-08-02)
Porous tantalum represents an alternative metal for primary and revision total knee arthroplasty (TKA) with several unique properties. Tantalum is a transition metal, which in its bulk form has shown excellent biocompatibility and is safe to use in vivo as
Wyświetl wszystkie powiązane dokumenty

Produkty

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition

Progress in Spintronic Materials

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Nanowire Synthesis: From Top-Down to Bottom-Up

The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.

Nasz zespół naukowców ma doświadczenie we wszystkich obszarach badań, w tym w naukach przyrodniczych, materiałoznawstwie, syntezie chemicznej, chromatografii, analityce i wielu innych dziedzinach.

Skontaktuj się z zespołem ds. pomocy technicznej