Przejdź do zawartości
Merck

Przejdź do

648663

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II)

Synonim(y):

Diethylruthenocene

Zaloguj się, aby wyświetlić ceny organizacyjne i kontraktowe.

Wybierz wielkość

Zmień widok
Rozmiar/SKUDostępnośćCena netto
2 g
Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności
2090,00 zł

Informacje o tej pozycji

Wzór liniowy:
C7H9RuC7H9
Numer CAS:
Masa cząsteczkowa:
287.36
NACRES:
NA.23
PubChem Substance ID:
UNSPSC Code:
12352103
MDL number:

2090,00 zł


Skontaktuj się z Obsługą Klienta, aby uzyskać informacje na temat dostępności

​
Złóż zamówienie na produkt na zamówienie
Pomoc techniczna
Potrzebujesz pomocy? Nasz zespół doświadczonych naukowców chętnie Ci pomoże.
Pozwól nam pomóc


Quality Segment

form

liquid

composition

Ru, 33.9-36.4% gravimetric

reaction suitability

core: ruthenium, reagent type: catalyst

refractive index

n20/D 1.5870 (lit.)

bp

100 °C/0.01 mmHg (lit.)

mp

6 °C (lit.)

density

1.3412 g/mL at 25 °C (lit.)

storage temp.

−20°C

SMILES string

[Ru].CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1.CC[C]2[CH][CH][CH][CH]2

InChI

1S/2C7H9.Ru/c2*1-2-7-5-3-4-6-7;/h2*3-6H,2H2,1H3;

InChI key

VLTZUJBHIUUHIK-UHFFFAOYSA-N

General description

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) is a organometallic compound widely used as a catalyst and as a precursor for thin-film deposition. It is valued for its high thermal stability, volatility, and efficiency in atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD) processes to create high-purity ruthenium and ruthenium oxide films. This compound plays a crucial role in microelectronics, catalysis, and energy materials.

Application

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium can be used:
  • A precursor to synthesize ruthenium films via the atomic layer deposition (ALD) method.
  • A precursor to synthesize ruthenium thin films on substrates such as SiO2 via plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD) method.
  • A metal-organic precursor in the chemical vapor deposition (CVD) process to deposit ruthenium (Ru) thin films suitable for applications like capacitor electrodes in microelectronics.
  • A precursor to prepare ultrathin ruthenium (Ru) films via the atomic layer deposition (ALD) and selective etching techniques.

Features and Benefits

Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) exhibits:
  • High Volatility: Suitable for gas-phase delivery in Chemical Vapor Deposition (CVD) and Atomic Layer Deposition (ALD).
  • Thermal Stability: Stable under typical ALD/CVD processing temperatures
Ta strona może zawierać tekst przetłumaczony maszynowo.

Porównaj podobne pozycje

Wyświetl pełne porównanie

Pokaż różnice

1 of 1

Ta pozycja
262455333158716790
description

-

description

97%

description

-

description

97%

form

liquid

form

solid

form

solid

form

powder

composition

Ru, 33.9-36.4% gravimetric

composition

-

composition

-

composition

-

mp

6 °C (lit.)

mp

199-201 °C (lit.)

mp

135 °C (dec.) (lit.)

mp

154-157 °C

density

1.3412 g/mL at 25 °C (lit.)

density

-

density

-

density

-

storage temp.

−20°C

storage temp.

-

storage temp.

-

storage temp.

-

refractive index

n20/D 1.5870 (lit.)

refractive index

-

refractive index

-

refractive index

-


Piktogramy

Exclamation mark

Słowo ostrzegawcze

Warning

Kody zagrożeń

Hazard Classifications

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - STOT SE 3

Narządy docelowe

Respiratory system

Klasa składowania

10 - Combustible liquids

Co się dzieje?

WGK 3

Temperatura zapłonu (°F)

>199.9 °F - closed cup

Temperatura zapłonu (°C)

> 93.3 °C - closed cup

PPE (środki ochrony indywidualnej)

Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter



Wybierz jedną z najnowszych wersji:

Certyfikaty analizy (CoA)

Lot/Batch Number

It looks like we've run into a problem, but you can still download Certificates of Analysis from our Dokumenty section.

Proszę o kontakt, jeśli potrzebna jest pomoc Obsługa Klienta

Masz już ten produkt?

Dokumenty związane z niedawno zakupionymi produktami zostały zamieszczone w Bibliotece dokumentów.

Odwiedź Bibliotekę dokumentów



Questions

Reviews

No rating value

Active Filters