추천 제품
Grade
semiconductor grade PURANAL™ (Honeywell 17814)
CofA
specification on request
expl. lim.
27 %
농도
≥25% NH3 in H2O
density
0.9 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
[NH4+].[OH-]
InChI
1S/H3N.H2O/h1H3;1H2
InChI key
VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N
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일반 설명
- precipitant for the R2O3 group of elements,
- complexing agent,
- dissolution medium.7
애플리케이션
- to clean wafers.1
- to prepare magnetic iron oxide nanoparticles[1]
- in the recovery of cellulose from sugarcane bagasse. The process enhances hydrolysis and -production of bioethanol[2]
- in bi-directional perfusion technique of human periodontal ligament cell sheets[3]
- as a mobile phase in the liquid chromatography for prebiotic galactooligosaccharides[4]
법적 정보
신호어
Danger
유해 및 위험 성명서
Hazard Classifications
Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1 - STOT SE 3
표적 기관
Respiratory system
Storage Class Code
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
WGK
WGK 2
Flash Point (°F)
Not applicable
Flash Point (°C)
Not applicable
개인 보호 장비
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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