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Merck

651478

Sigma-Aldrich

アンチモン化ガリウム

(single crystal substrate), <100>, diam. × thickness 2 in. × 0.5 mm

別名:

Gallium antimony, Gallium monoantimonide

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About This Item

化学式:
GaSb
CAS番号:
分子量:
191.48
EC Number:
MDL番号:
UNSPSCコード:
12352300
PubChem Substance ID:
NACRES:
NA.23

フォーム

(single crystal substrate)

抵抗性

~0.1 Ω-cm

直径×厚み

2 in. × 0.5 mm

mp

710 °C
980 °C (lit.)

密度

5.619 g/mL at 25 °C
5.62 g/mL at 25 °C (lit.)

半導体特性

<100>

SMILES記法

[Ga]#[Sb]

InChI

1S/Ga.Sb

InChI Key

VTGARNNDLOTBET-UHFFFAOYSA-N

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物性

熱膨張率: 6.1 x 10-6/oK; 熱伝導率: 270 mW/cm.k at 300K; 移動度 600~800 cm2/V ⋅ sec
非ド-プP型半導体,の成長技術: LEC、 担体濃度 = 1-2 × 10-17 cm-3, EPD <103 cm-2

物理的形状

立方晶 (a = 6.095Å)

ピクトグラム

Exclamation markEnvironment

シグナルワード

Warning

危険有害性情報

注意書き

危険有害性の分類

Acute Tox. 4 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2

保管分類コード

13 - Non Combustible Solids

WGK

WGK 2

引火点(°F)

Not applicable

引火点(℃)

Not applicable

個人用保護具 (PPE)

dust mask type N95 (US), Eyeshields, Gloves


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資料

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

プロトコル

本フォトレジストキットには、リソグラフィープロセスにおける各ステップで必要な材料が含まれています。各材料は、すぐにお使いいただけるようにあらかじめ計量されており、エッチング液については、様々な基板に適切なものをお選びいただけるように、個別に販売しています。

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

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