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アプリケーション
ヘキサメチルシクロトリシロキサン（D3）は、次の合成に使用できます。
- アニオン開環重合によるポリシロキサンの合成。
- パルスプラズマ援用化学気相成長法（PECVD）による薄膜の合成。このような薄膜には、絶縁生体材料としての用途があります。
- 炭酸ジメチル処理により、アルカリ金属水酸化物触媒による脱オリゴマー化を介して得られる金属ジメトキシジメチルシランの合成。
適用法令
試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。
消防法
第2類:可燃性固体
引火性固体
危険等級III
Jan Code
235687-25G:
235687-BULK:
235687-VAR:
235687-100G:
試験成績書（COA）
製品のロット番号・バッチ番号を入力して、試験成績書（COA） を検索できます。ロット番号・バッチ番号は、製品ラベルに「Lot」または「Batch」に続いて記載されています。
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Anionic polymerization of hexamethylcyclotrisiloxane with acetylacetone initiator to form telechelic polymer
Kumar A and Eichinger BE
Macromolecules, 23(26), 5358-5358 (1990)
A S Chawla
Biomaterials, 2(2), 83-88 (1981-04-01)
Silicone coated Celgard-2400 and Silastic membranes were prepared by plasma polymerization of hexamethylcyclotrisiloxane. The adhesion of canine platelets and leucocytes was tested by passing whole blood from the anaesthetized mongrel dog in an ex-vivo shunt system. The silicone control Celgard
Living anionic polymerization of hexamethylcyclotrisiloxane (D3) using functionalized initiation.
Elkins C L and Long T E
Macromolecules, 37(17), 6657-6659 (2004)
Robust block copolymer mask for nanopatterning polymer films.
Chao C C, et al.
ACS Nano, 4(4), 2088-2094 (2010)
Elisabetta Finocchio et al.
Chemosphere, 72(11), 1659-1663 (2008-07-08)
The decomposition of hexamethylcyclotrisiloxane (HMCTS) has been studied at room temperature and in the range 473-673 K over the surface of basic (CaO, MgO) and acidic oxides (Al(2)O(3), SiO(2)). Alumina allows the complete removal of HMCTS from synthetic biogases at
ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.
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