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651761

Sigma-Aldrich

Negative resist remover I

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About This Item

Codice UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23

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Durata

1 yr (cool area away from direct sunlight)

Livello qualitativo

100

pH

<2 (20 °C)

P. ebollizione

204-304 °C (lit.)

Densità

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

Temperatura di conservazione

2-8°C

Categorie correlate

Descrizione generale

Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.

Avvertenze

Danger

Indicazioni di pericolo

H302,H304,H314,H351,H411

Classi di pericolo

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

Codice della classe di stoccaggio

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 3

Punto d’infiammabilità (°F)

204.8 °F

Punto d’infiammabilità (°C)

96 °C

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Certificati d'analisi (COA)

Lot/Batch Number
MKCR8695
MKCN0261
MKCM9918
MKCK5971
MKCK1587

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Protocolli

Negative Photoresist Procedure

Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.

Domande

1–2 di 2 domande  

  1. For the 65,176-1 Negative Resist Remover, do we also buy H2SO4, or is that already in the 65, 176-1?

    1 risposta

    1. This product does not include H2SO4.

      Utile?

  2. Is this remover available with AZ 5214E which is an IR photo-resist (positive to negative) ?

    1 risposta

    1. The photoresist remover AZ 5214E (or others options for positive and negative removal) is not available. Unfortunately, the 651761, which is also included in the Negative Photoresist kit (654892), are the only reagents offered at this time.

      Utile?

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