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三（二甲氨基）硅烷

packaged for use in deposition systems

• 别名: 三（二甲氨基）硅烷, (Me₂N)₃SiH, N,N,N′,N′,N′′, N′′-六甲基硅烷三胺, 三（二甲基氨基）硅烷, N,N,N′,N′,N′′′,N′′′-六甲基硅烷三胺, TDMA
• 线性分子式: ((CH₃)₂N)₃SiH
• CAS号: 15112-89-7
• 分子量: 161.32
• EC號碼: 239-165-0
• MDL號碼: MFCD00048006
• 分類程式碼代碼: 12352103
• PubChem物質ID: 329766793
• NACRES: NA.23

属性

• 品質等級: 100
• 化驗: ≥99.9% (GC)
• 形狀: liquid
• bp: 142 °C (lit.)
• mp: −90 °C (lit.)
• 密度: 0.838 g/mL at 25 °C (lit.)
• SMILES 字串: CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C
• InChI: 1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3
• InChI 密鑰: TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

说明

一般說明

三(二甲氨基)硅烷是一种具有高挥发性和热稳定性的有机硅化合物，广泛用作气相沉积前驱体，制造用于太阳能电池、燃料电池催化剂和半导体等各种应用的含硅薄膜。沉积可以在低衬底温度下进行（<150）。TDMAS的熔点和蒸气压在合适的工作范围内，是非常好的气相沉积前驱体。

應用

三(二甲氨基)硅烷可用于：

• 作为原子层沉积法将硅酸铝沉积到染料敏化太阳能电池TiO₂阳极上的硅源。
• 作为制造锂离子电池功能化硅增强隔膜的前驱体。

安全信息

• 象形圖: GHS02,GHS06,GHS05
• 訊號詞: Danger
• 危險聲明: H225,H261,H302,H311 + H331,H314
• 防範說明: P210 - P231 + P232 - P280 - P303 + P361 + P353 - P304 + P340 + P310 - P305 + P351 + P338
• 危險分類: Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
• 安全危害: EUH029
• 儲存類別代碼: 4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
• 水污染物質分類（WGK）: WGK 3
• 閃點（°F）: 16.0 - 32.0 °F - closed cup
• 閃點（°C）: -8.89 - 0.00 °C - closed cup